□■□基板加熱ヒーター□■□
□■□基板加熱ヒーター□■□
基板加熱ヒーターは、フロントプレート材質に「窒化アルミ」「ボロンナイトライド」「インコネル」「石英」などから選択ができ、更に搭載するヒーターエレメントもNiCr, Kanthal, Graphite, CCコンポジット, 及び各種コーティング品など豊富に用意。 プロセス雰囲気に合わせてハウジング、電極構造、冷却構造などを自在にカスタマイズした基板加熱ユニットをご提案します。 超高温焼成・加熱効率・均熱性・温度再現性に優れた基板加熱ヒーターユニットです。 半導体製造装置、CVD、PVD（蒸着、スパッタ、PLD、ALD）、高温亜ニール装置などあらゆる装置構成に対応が可能です。
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スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
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スパッタリング装置『MiniLab-060』
蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み立てることができるセミカスタムメイド薄膜実験装置
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真空蒸着装置『MiniLab-080』
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
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スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』
高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式スパッタリング装置
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真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
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真空蒸着装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
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真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』
限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新の真空蒸着技術の全てを収納しました。
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スパッタリング装置『MiniLab-026』
小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
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真空蒸着装置『MiniLab-026』
小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
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アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
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