マルチ雰囲気炉｜雰囲気焼成から熱CVDプロセスまで対応
ガス切替＋加湿/気化器ユニットで、焼成・反応評価・熱CVDを1台で検討
「マルチ雰囲気炉」は、真空・不活性雰囲気に加え、H2、NH3、O2など複数の雰囲気ガスを切り替えながら加熱できる汎用型の雰囲気炉です。 酸化、還元、窒化、加湿雰囲気での焼成など、複雑な反応条件を1台で再現できるため、材料開発・表面処理・粉末焼成・反応評価に適しています。 また、Wetterによる加湿ラインだけでなく、気化器を組み合わせることで、液体原料や有機金属溶液を気化導入する熱CVD炉としての構成も検討可能です。 薄膜形成、表面改質、コーティング、前駆体反応評価など、通常の雰囲気焼成より一歩進んだプロセス開発にも活用できます。 【特長】 ■ 真空、不活性、酸化、還元、窒化雰囲気に対応 ■ H2、NH3、O2、N2、Arなど各種ガスを切替可能 ■ Wetter接続により加湿雰囲気焼成に対応 ■ 気化器接続により熱CVDプロセスにも拡張可能 ■ 最高温度1700℃、昇温速度10℃/minに対応 ■ 排気・除害・安全機器との連携も検討可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
基本情報
【基本仕様】 ■ 最高温度：最大1700℃ ■ 昇温速度：10℃/min ■ 雰囲気：真空、不活性ガス、酸化雰囲気、還元雰囲気、NH3等 ■ 炉体：アルミナシェルモジュール炉体 ■ 必要UTY：電気、冷却水、プロセスガス 【対応できるプロセス】 ■ H2還元、NH3窒化、O2酸化、N2/Ar不活性焼成 ■ Wetterによる加湿雰囲気焼成 ■ 気化器による液体原料・有機金属前駆体の導入 ■ 熱CVD、表面改質、コーティング条件の検討 ■ 反応性ガス使用時の排気・除害・安全設計 ※仕様は用途・ガス種・前駆体・温度条件に応じてカスタム可能です。
価格情報
※装置仕様によって価格が変動するため、詳しくはお気軽にお問合せください。
納期
用途／実績例
【適用分野】 ■ 金属材料の還元焼成、酸化処理、窒化処理 ■ 粉末材料、触媒、セラミックス、電池材料の雰囲気焼成 ■ 加湿雰囲気での触媒処理、酸化反応、表面反応評価 ■ NH3、H2、O2など反応性ガスを用いた材料評価 ■ 気化器接続による熱CVD、表面改質、コーティング検討 ■ 液体原料・有機金属前駆体を用いた薄膜形成条件の探索 ■ 研究・開発における条件比較試験 【このような課題に】 ■ 1台で酸化・還元・窒化・加湿条件を比較したい ■ 加湿雰囲気と乾燥雰囲気を切り替えて評価したい ■ 液体原料を気化導入し、熱CVD条件を検討したい ■ 前駆体の気化、分解、反応、成膜条件を確認したい ■ 排気・除害・安全対策を含めて炉を検討したい ガス種、前駆体、温度、流量、排気処理が未確定の段階でも、用途に応じてご相談いただけます。
カタログ（3）
カタログをまとめてダウンロード
おすすめ製品
取り扱い会社
当社は、「電気」「設備」「化学」の三つの技術を独自のノウハウで 融合させ、革新的な加熱炉、その他設備を開発している会社です。 独自の高温電気炉技術を活かしカーボン炉やマルチ雰囲気炉、メタル炉、 塩素炉など様々な電気炉(加熱炉)を取り扱っております。 単なる設備メーカーではなく、10年先のスタンダードを見据え、お客様と 共にモノづくりを革新的な熱でサポートする、戦略的開発パートナーです。