ウシオ電機株式会社 公式サイト

加熱効率向上で省エネルギー化！高速応答性でサーマルバジェット低減を実現

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ワークサイズに応じて、フラッシュランプを複数本配置！大面積で一括照射、高照射が可能！

【仕様(抜粋)】 ＜実験用／大面積用＞ ■照射エリア(mm)：100×150／500×500 ■照射エネルギー(J／cm2)：～40／～4 ■均一度(%)：75以上／90以上 ■パルス幅設定範囲(msec)：1～60 ■発光周期(sec)：60以上／6.5以上 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

フライヤなどの食品加熱用の熱源にも好適！気密性を高めた二重管ヒーターランプ

【QIRT100V500W 仕様（抜粋）】 ■定格電圧：100V ■消費電力：500W ■定格寿命：5000h ■色温度：2400K ■全長（L1）：500mm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

加熱対象物の形状、照射範囲などから選択可能！ヒータユニットのご紹介

【ラインアップ（抜粋）】 ■フォーカスタイプ ・UH-HUC-CL200 ・UH-HUC-CL350 ■パラボラタイプ D ・UH-HUD-CL200 ・UH-HUD-CL350 ■パラボラタイプ M（背面フラット形状/水冷パネル等への取り付けが可能） ・UH-HUM-CL200 ・UH-HUM-CL350 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ユーザが求める温度、出力、寸法など！特性に合わせたランプ、ミラー形状、冷却方式を選定

【ラインアップ（抜粋）】 ■フォーカスタイプ ・UH-HUF-CL200 ・UH-HUF-CL350 ■パラボラタイプ P ・UH-HUP-CL200 ・UH-HUP-CL350 ■パラボラタイプ N（コンパクト型・金メッキミラー仕様） ・UH-HUN-CL200 ・UH-HUN-CL350 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

高効率なエネルギー源！赤外線ハロゲンヒータなどの光加熱製品をご紹介

【その他掲載内容(一部)】 ■サークル形ハロゲンヒータランプ　QIR Circle ■直管形ハロゲンヒータランプ　QIRT ■ランプの特殊加工について ■赤外線ハロゲンヒータ技術資料 ■制御方法について ■昇温データ例 ■ラインヒータユニット ■高出力ラインヒータユニット(オーダーメイド) ■サークルヒータユニット ■スポットヒータユニット ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

大面積で一括照射・高照度での照射が可能！複数パルスの照射もできる加熱装置

【その他の特長】 ■深さコントロール(パルス制御) ・ランプに流れる電流を半導体スイッチでON/OFF制御することで、 　ランプ電流、パルス幅の調整が出来、加熱深度をコントロール(0.1～60msec) ・複数パルスの照射も可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

真空対応などの加工が可能！円形状または、円形範囲への加熱が必要な場合に活用できます！

【ラインアップ】 ■QIR100V1000W/100C ■QIR200V1000W/150C ■QIR200V2000W/150C ■QIR200V3000W/200C ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【事例紹介】液体の保温・加熱

伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源による、液体の保温・過熱の事例紹介です 【特徴】 ○半導体製造ラインにおけるシリコンウェハの洗浄 　液晶製造ラインにおけるガラス基板の洗浄などに使用される 　純水や薬液を保温・加湿することが可能 ○高品質の石英ガラスで2重に覆われた 　ハロゲンランプで構成されているため、不純物汚染が少なく 　加熱効率95％以上と高効率に加熱することが可能 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

【事例紹介】成膜装置のプレヒート

統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源による、成膜装置のプレヒートの事例紹介です。 真空環境下においても非接触・高速昇温性を持った ハロゲンランプヒータを使用することにより 半導体・FPD・太陽電池などの成膜工程において タクトタイム短縮に貢献することができる ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

【事例紹介】RTP（ラピッドサーマルプロセス）

伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源によるRTPの事例紹介です。 かつての半導体熱処理は、ファーネス（断熱）が一般的だったが ナノオーダーのデバイスの場合、薄い膜形成や浅い接合が必要となり アイソサーマルの代名詞ともなっているRTPがキーテクノロジーとなっています。 また、次世代半導体においては、熱流束技術として フラッシュランプアニールが主流となっています。 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

ウシオの光で出来ること　熱する『接合』

伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源の実用例（接合）のご紹介です 【特徴】 ○使用光源：ハロゲンランプヒータ ○各種ヒートシンクの配管溶接にハロゲンヒータが採用 ○ハロゲンヒータの光は輻射熱として 　照射されるため、温風タイプとは異なり 　周囲環境に左右されにくく 　短時間で所定温度まで昇温が可能 ○ガスバーナなどの加熱とは異なりCO2の環境負荷に適している ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

ウシオの光で出来ること『不純物拡散』

統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源の実用例（不純物拡散）のご紹介です 【特徴】 ○使用光源：クセノンフラッシュランプ・ハロゲンヒータランプ ○半導体工程において、ソースドレインにインプラントを行い 　その後、アニール工程によってドーピングした不純物を活性化 ○クセノンフラッシュランプの特性を活かし 　ミリ秒単位という短時間で今までの活性層の深さに比較して 　極めて浅い部分（nmオーダー）を高温アニールし 　不純物の拡散を防ぐことが可能 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

ウシオの光で出来ること『加熱/成膜』

伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源の実用例（加熱/成膜）のご紹介です 【特徴】 ○使用光源：ハロゲンランプヒータ ○半導体・FPD・太陽電池などの製造プロセスにおける 　金属膜、絶縁膜の形成に用いられる 　CVDやスパッタリング装置の熱源として最適 ○さらに成膜前の、水分除去や予備加熱にハロゲンランプヒータを 　用いることで、スループット向上と高品質な膜形成を実現 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

3次元反射光シミュレーションを経て設計！優れた加熱均一性と昇温性能

【UL-HU-CH10KW/STD 仕様（抜粋）】 ■定格電圧：200V ■消費電力：10kW ■ユニット外径：198mm ■ユニット奥行：160mm ■重量：6kg ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。