イオンビームエッチング(IBE)・成膜装置(IBD)
R＆D用特殊仕様から量産向けまで対応可能！一般的なグリッドと比較して約3倍の長寿命化
当社で取り扱う、「イオンビームエッチング(IBE)・成膜装置(IBD)」を ご紹介いたします。 標準的なエントリーモデルから、膜厚均一性等の精密な制御が可能な ハイエンドモデルまでラインアップ。企業、アカデミアでの研究開発向けに、 グローブボックス付属等の特殊仕様にも対応します。 また、R＆Dのラボスケールから量産まで対応し、難エッチング材料のエッチング プロセスや、デュアルイオンガンシステムを搭載した様々な材料の均一性及び 膜厚分布を重視した成膜が可能です。 【特長】 ■標準的なエントリーモデルから、膜質等の精密制御の可能な ハイエンドクラスまで、要求性能に合わせたモデルのご提案が可能 ■R＆D、アカデミアでの研究用途に、グローブボックスの接続やその他の 特殊仕様にも対応が可能 ■膜厚均一性は200mmウェーハで＜0.6％(3σ)達成 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報
【その他の特長】 ■Marathon gridsは、一般的なグリッドと比較して3倍の長寿命化達成 (他社製品への搭載可) ■独自技術によりRFシャントおよびアノード消失を防止したイオンガンを搭載 ■プラズマCVD、ドライエッチャー等の当社装置とのクラスター化も可能 ■複数ターゲットの搭載、デュアル・イオンガン・システムによるイオンアシスト機能等、 多彩な機能を選択可 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■FeNi,FeCoなどの強磁性体やPZT,AlScN,LiTaO3,LiNbO3などの強誘電体を始めとした 難しいエッチングプロセス ■Ta,Ti,W等の金属膜をはじめ、Ta2O5,Nb2O5等の酸化膜や、様々な材料の薄膜をバルクに 近い密度と高純度、優れた均一性での成膜 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
この製品に関するニュース（2）
-
TFE社製スパッタ装置ーダウン/サイド・スパッタ構造で幅広いアプリケーションに対応
イタリア ミラノの郊外、ナビスコに拠点を置く、TFEーThin Film Equipment Srl.は、薄膜形成装置の設計・製造を40年近く、色々な分野に 薄膜形成装置を提供してきました。 例えば、温度50度程度の低温での薄膜形成は、プラスティック製品の コーティングを可能とし、トレー方式のサンプルトレーは、大小サイズの 異なる圧電素子の電極形成や、形状が異なる対象物の装飾コーティング、 保護膜形成コーティングを可能にします。 医療製品、センサー、プローブカードなど色々な用途にご使用いただけます。 デモも可能で、カスタマイズにも対応しており、製品立ち上げから メンテナンスは、プラズマ・サーモ・ジャパンが日本語で 対応させていただきます。
-
ECLIPSE 各種アップグレードのサービス開始しました
この度、ECLIPSE Star/Mark II/Mark IV の各種アップグレードの サービスを開始致しました。 詳細につきましては、アップグレード表を ダウンロードした上で、ご確認ください。
取り扱い会社
当社は、プラズマ技術を応用したエッチング、成膜、切断装置に加え、 ICP, RIE, DSE, IBE, IBD, PECVD, HDPCVD, HDRF F.A.S.T.-ALD装置の販売、 並びに、当該装置に関するカスタマーサービスの提供しております。 米国フロリダ州に本社を構える、Plasma-Therm LLCは、1974年に設立。 設立以来、48年間プラズマ技術を応用した半導体製造装置の製造・販売を 行っています。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 ▼グループ会社Corial 公式サイト https://corial.plasmatherm.com/en
