ナノマテリアル成膜ソリューション
ナノマテリアル(金属ナノ粒子、ナノワイヤー、ナノシート、ナノエレクトロニクス用材料)用薄膜の成膜に好適！
『TFE ニュースパッタリングシリーズ』は、多彩な機能を有する 研究開発及び小規模生産用システムであり、金属ナノ粒子、ナノワイヤー、 ナノシートなどのナノマテリアル用メタル膜・誘電体膜の最大800℃までの 高温成膜が可能な小型スパッタリング装置です。 また手動あるいは自動ロードロックが選択可能で、かつPLCおよびPCによる 完全自動制御とインターネットによるリモートコントロールを実現した スパッタリング装置。 ナノマテリアル用薄膜成膜において高い基板加熱温度(最大加熱温度： 800℃)を求めるエンジニアの方におすすめします。 【特長】 ■ナノマテリアル(金属ナノ粒子、ナノワイヤー、ナノシート、 ナノエレクトロニクス用材料)用薄膜の成膜に好適 ■他社装置では困難な800℃基板加熱が可能 ■基板回転付きコスパッタが可能 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
基本情報
【その他の特長】 ■研究開発及び小規模生産用スパッタリング装置 ■最大加熱温度：800℃ ■Cosputterが可能(基板回転が可能) ■基板サイズ：2インチから8インチに対応(異形状のワークをパレットに搭載して搬送することが可能) ■最大4つのカソード(スパッタアップ・スパッタダウン)の装着が可能 ■強誘電体・強磁性体用強磁場カソードを提供可能 ■手動及び自動ロードロックを選択可能 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■ナノマテリアル(金属ナノ粒子、ナノワイヤー、ナノシートなど微細構造をもつメタルや誘電体)用高温成膜 ■光学薄膜用途：低屈折率材料(SiO2)及び高屈折率材料：(Ta2O5、Nb2O5、TiO2)の成膜 ■磁性層(NiFe、FeCo、CoFeB、Pd、Co)の成膜 ■EUVマスクブランクス超薄膜多層膜の成膜(Si、Mo、Ru) ■高温ボロメトリック・サブストイキオメトリック膜の成膜(VOx、TiOx) ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
この製品に関するニュース（2）
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TFE社製スパッタ装置ーダウン/サイド・スパッタ構造で幅広いアプリケーションに対応
イタリア ミラノの郊外、ナビスコに拠点を置く、TFEーThin Film Equipment Srl.は、薄膜形成装置の設計・製造を40年近く、色々な分野に 薄膜形成装置を提供してきました。 例えば、温度50度程度の低温での薄膜形成は、プラスティック製品の コーティングを可能とし、トレー方式のサンプルトレーは、大小サイズの 異なる圧電素子の電極形成や、形状が異なる対象物の装飾コーティング、 保護膜形成コーティングを可能にします。 医療製品、センサー、プローブカードなど色々な用途にご使用いただけます。 デモも可能で、カスタマイズにも対応しており、製品立ち上げから メンテナンスは、プラズマ・サーモ・ジャパンが日本語で 対応させていただきます。
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ECLIPSE 各種アップグレードのサービス開始しました
この度、ECLIPSE Star/Mark II/Mark IV の各種アップグレードの サービスを開始致しました。 詳細につきましては、アップグレード表を ダウンロードした上で、ご確認ください。
取り扱い会社
当社は、プラズマ技術を応用したエッチング、成膜、切断装置に加え、 ICP, RIE, DSE, IBE, IBD, PECVD, HDPCVD, HDRF F.A.S.T.-ALD装置の販売、 並びに、当該装置に関するカスタマーサービスの提供しております。 米国フロリダ州に本社を構える、Plasma-Therm LLCは、1974年に設立。 設立以来、48年間プラズマ技術を応用した半導体製造装置の製造・販売を 行っています。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 ▼グループ会社Corial 公式サイト https://corial.plasmatherm.com/en
