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鉄(Fe)スパッタリングターゲットFe 蒸着用アイロンターゲット
薄膜形成や超伝導材料、耐熱・耐食性用途に用いられる純度99.9％の鉄（Fe）材料！
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単結晶シリコン (Si)ターゲット 結晶方向1‐0‐0純度>9N
1-0-0単結晶シリコン; 円型シリコンターゲット；研究用 実験用 大学研究シリコン 高純度9N 抵抗値≦0.01オーム
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多結晶シリコンSiポリシリコンターゲットN型P型NonDope
多結晶シリコンターゲット蒸着用CVD装置、アニール炉拡散炉などの装置の部材として使用、高い純度と熱特性が求められる用途に最適材料
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酸化二ケルNiOターゲット高密度高純度光触媒用保護膜用磁性薄膜用
抵抗変化型メモリ（RRAM）、透明導電性薄膜（TCO）、ガスセンサー、スピントロニクスとして使用可能な酸化二ケル材料！
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酸化ニオブ(Nb2O5)ターゲット
高い屈折率を利用して、カメラ用レンズなどの光学製品の小型化や高性能化に貢献！積層セラミックコンデンサの誘電率を高める添加材として
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五酸化バナジウムV2O5ターゲット蒸着材高純度薄膜電子材料
五酸化バナジウム(V2O5)ターゲット V2O5薄膜用
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酸化チタン(TiO2)ターゲット
半導体製造プロセスや、HDDなどの記録メディア、フラットパネルディスプレイなどの薄膜形成に使用な酸化チタン！
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酸化スズ（SnO）ターゲット
電極として使用され、画面を構成する重要な材料！透明な電極として、画面のタッチ操作を可能、帯電防止膜、電磁波遮蔽膜などに！
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酸化インジウム（In2O3）ターゲット
液晶、有機EL、プラズマディスプレイなどでの電圧印加用電極材等で使用可能な酸化インジウム材料
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酸化アルミ(Al2O3)ターゲット
チップ製造における絶縁膜や、その他の高性能電子部品の製造、センサー、ソーラーパネル、ディスプレイなどの光学機器の表面改質に！
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ニッケルカッパー(NiCu)ターゲット
半導体集積回路（VLSI）やフラットパネルディスプレイ・光ディスク・表面コーティング等に利用可能な合金材料
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ニッケルクロム（NiCr）ターゲット
薄膜形成やマイクロエレクトロニクス製造、建築ガラスのLow-E膜・液晶パネル・記録メディアなどに利用可能なニッケルクロム！
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ニッケル・バナジウム(NiV)ターゲット
集積回路（IC）の製造、半導体・マイクロエレクトロニクス産業に貢献！高品質な薄膜を成膜可能なニッケル・バナジウム材料
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タングステンチタン(W-Ti)ターゲット
マイクロチップのゲート回路などにおける、金属配線用の拡散防止剤や接着剤として使用可能なタングステンチタン材料
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インジウムアンチモン（IAO）ターゲット
静電気防止コーティングと塗料にも広く使用されており、静電気蓄積を著しく減少させ、設備と人の安全を保護することができるIAO材料
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アルミネオジム(Al-Nd)ターゲット
フラットパネルディスプレイの配線や磁気記録媒体、磁気センサーなどに利用可能なアルミネオジム材料
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アルミチタン(Al-Ti)ターゲット
工具・切削工具用コーティング、半導体デバイス内のトランジスタや集積回路、バリア膜などの形成に利用可能なアルミチタン材料！
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アルミシリコン(Al-Si)ターゲット
フラットパネルディスプレイの配線や磁気記録媒体、磁気センサーなどの用途に好適なアルミシリコン材料！
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SiO2(石英)リング
半導体製造工程のほか、光学機器、化学実験装置、医療機器など、幅広い分野で利用な石英リング！
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C18200(Cu)バッキングプレート
バッキングプレートとして使われ、硬度≧1/2Hの合金材料！
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C18150(Cu)バッキングプレート
バッキングプレートとして使われ、硬度≧1/2Hの合金素材！
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ITO (90:10; 95:5; 97:3)低密度タブレットも
透明電極としてや画面の視覚情報を損なわずに画素を制御するために使用可能な酸化物！
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ジルコニウム(Zr)ターゲット
ジルコニウム(Zr)ターゲット 純度≧3N5、Hf≦0.2wt%，出荷中
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銅(Cu)ターゲット
銅(Cu)ターゲット 純度:3N7~6N 結晶40‐80um C18200 C18150も取り扱い
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チタン(Ti)ターゲット
チタンTiターゲット 最高純度≧5N5
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ニッケル(Ni)ターゲット
ニッケル(Ni)ターゲット 純度≧4N5
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ハフニュウム(Hf)ターゲット
ハフニュウム(Hf)ターゲット 純度≧4N5 Zr≦0.1wt％
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クロム(Cr)ターゲット
クロム(Cr)ターゲット 純度≧3N8
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タンタル(Ta)ターゲット
タンタル(Ta)ターゲット 純度≧5N
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錫(Sn)ターゲット
錫(Sn)ターゲット 純度≧4N
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