金属ターゲット
合金ターゲット
セラミックターゲット
酸化物ターゲット
その他の各種ターゲット
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ニオブ(Nb)ターゲット
ニオブ(Nb)ターゲット 純度≧3N5
最終更新日 2025年10月27日
タングステン(W)ターゲット
タングステン(W)ターゲット 純度≧5N
スパッタリング
真空装置により酸化防止すること、効率においてはターゲット材の寸法公差などが重要！
最終更新日 2025年10月31日
