すべての製品・サービス
31～60 件を表示 ／ 全 89 件
-
【精密機器向け】タングステン(W)ターゲット
精密機器の薄膜形成に。高純度タングステン(W)ターゲット
最終更新日
-
【宝飾品向け】タングステン(W)ターゲット
宝飾品の美しさを追求。高純度タングステン(W)ターゲット
最終更新日
-
【高級時計向け】タングステン(W)ターゲット
時計の装飾に。耐摩耗性に優れた高純度タングステン(W)ターゲット
最終更新日
-
【時計装飾向け】タングステン(W)ターゲット
時計の装飾に。高純度タングステン(W)ターゲット
最終更新日
-
【金属加工向け】タングステン(W)ターゲット
金属加工の効率化に貢献する高純度タングステン(W)ターゲット
最終更新日
-
【電子部品向け】タングステン(W)ターゲット
タングステン(W)ターゲット 純度≧5N
最終更新日
-
【研究機関向け】タングステン(W)ターゲット
高純度タングステン(W)ターゲットで実験の信頼性を向上
最終更新日
-
【光学向け】タングステン(W)ターゲット
タングステン(W)ターゲット 純度≧5N
最終更新日
-
【エネルギー業界向け】タングステン(W)ターゲット
タングステン(W)ターゲット 純度≧5N
最終更新日
-
【自動車向け】タングステン(W)ターゲット
タングステン(W)ターゲット 純度≧5N
最終更新日
-
【航空宇宙向け】タングステン(W)ターゲット
航空宇宙分野の耐熱用途に。高純度タングステンターゲット
最終更新日
-
【医療機器向け】タングステン(W)ターゲット
高純度タングステン(W)ターゲットで、X線システムの性能向上を
最終更新日
-
【ディスプレイ向け】タングステン(W)ターゲット
タングステン(W)ターゲット 純度≧5N
最終更新日
-
【半導体向け】タングステン(W)ターゲット
高純度タングステン(W)ターゲットで、スパッタリング効率を向上
最終更新日
-
【研究機関向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
高純度Hfターゲットで、実験の信頼性を向上。
最終更新日
-
【光学レンズ向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
高純度Hfターゲットで、光学レンズの性能向上をサポート
最終更新日
-
【計測機器向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
高純度Hfターゲットで、センサーの性能向上をサポート
最終更新日
-
【エネルギー分野向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
高純度Hfターゲットで燃料電池などのエネルギー効率向上をサポート
最終更新日
-
【ディスプレイ向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
高純度Hfターゲットで、ディスプレイの品質向上に貢献
最終更新日
-
【化学触媒向け】高純度ハフニウム(Hf)ターゲット
高純度Hfターゲットで、触媒反応の効率化をサポート。
最終更新日
-
【電子部品向け】高純度Hfターゲット
電子部品の誘電体膜に。高純度Hfターゲットで信頼性向上
最終更新日
-
【医療向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
高純度Hfターゲットで、造影剤の品質向上をサポート
最終更新日
-
【航空宇宙向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
航空宇宙分野の耐熱性を向上させる高純度Hfターゲット
最終更新日
-
【原子力制御棒向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
高純度Hfターゲットで、原子力制御棒の信頼性を向上
最終更新日
-
【半導体向け】高純度ハフニウム(Hf)ターゲット
半導体薄膜形成に。高純度Hfターゲットで高品質な薄膜を。
最終更新日
-
【半導体向け】錫(Sn)ターゲット
錫(Sn)ターゲット 純度≧4N
最終更新日
-
鉄(Fe)スパッタリングターゲットFe 蒸着用アイロンターゲット
薄膜形成や超伝導材料、耐熱・耐食性用途に用いられる純度99.9％の鉄（Fe）材料！
最終更新日
-
単結晶シリコン (Si)ターゲット 結晶方向1‐0‐0純度>9N
1-0-0単結晶シリコン; 円型シリコンターゲット；研究用 実験用 大学研究シリコン 高純度9N 抵抗値≦0.01オーム
最終更新日
-
多結晶シリコンSiポリシリコンターゲットN型P型NonDope
多結晶シリコンターゲット蒸着用CVD装置、アニール炉拡散炉などの装置の部材として使用、高い純度と熱特性が求められる用途に最適材料
最終更新日
-
酸化二ケルNiOターゲット高密度高純度光触媒用保護膜用磁性薄膜用
抵抗変化型メモリ（RRAM）、透明導電性薄膜（TCO）、ガスセンサー、スピントロニクスとして使用可能な酸化二ケル材料！
最終更新日