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【電子部品向け】タングステン(W)ターゲット
タングステン(W)ターゲット 純度≧5N
最終更新日
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【研究機関向け】タングステン(W)ターゲット
高純度タングステン(W)ターゲットで実験の信頼性を向上
最終更新日
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【光学向け】タングステン(W)ターゲット
タングステン(W)ターゲット 純度≧5N
最終更新日
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【エネルギー業界向け】タングステン(W)ターゲット
タングステン(W)ターゲット 純度≧5N
最終更新日
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【自動車向け】タングステン(W)ターゲット
タングステン(W)ターゲット 純度≧5N
最終更新日
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【航空宇宙向け】タングステン(W)ターゲット
航空宇宙分野の耐熱用途に。高純度タングステンターゲット
最終更新日
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【医療機器向け】タングステン(W)ターゲット
高純度タングステン(W)ターゲットで、X線システムの性能向上を
最終更新日
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【ディスプレイ向け】タングステン(W)ターゲット
タングステン(W)ターゲット 純度≧5N
最終更新日
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【半導体向け】タングステン(W)ターゲット
高純度タングステン(W)ターゲットで、スパッタリング効率を向上
最終更新日
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【研究機関向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
高純度Hfターゲットで、実験の信頼性を向上。
最終更新日
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【光学レンズ向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
高純度Hfターゲットで、光学レンズの性能向上をサポート
最終更新日
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【計測機器向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
高純度Hfターゲットで、センサーの性能向上をサポート
最終更新日
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【エネルギー分野向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
高純度Hfターゲットで燃料電池などのエネルギー効率向上をサポート
最終更新日
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【ディスプレイ向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
高純度Hfターゲットで、ディスプレイの品質向上に貢献
最終更新日
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【化学触媒向け】高純度ハフニウム(Hf)ターゲット
高純度Hfターゲットで、触媒反応の効率化をサポート。
最終更新日
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【電子部品向け】高純度Hfターゲット
電子部品の誘電体膜に。高純度Hfターゲットで信頼性向上
最終更新日
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【医療向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
高純度Hfターゲットで、造影剤の品質向上をサポート
最終更新日
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【航空宇宙向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
航空宇宙分野の耐熱性を向上させる高純度Hfターゲット
最終更新日
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【原子力制御棒向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
高純度Hfターゲットで、原子力制御棒の信頼性を向上
最終更新日
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【半導体向け】高純度ハフニウム(Hf)ターゲット
半導体薄膜形成に。高純度Hfターゲットで高品質な薄膜を。
最終更新日
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【半導体向け】錫(Sn)ターゲット
錫(Sn)ターゲット 純度≧4N
最終更新日
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鉄(Fe)スパッタリングターゲットFe 蒸着用アイロンターゲット
薄膜形成や超伝導材料、耐熱・耐食性用途に用いられる純度99.9％の鉄（Fe）材料！
最終更新日
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単結晶シリコン (Si)ターゲット 結晶方向1‐0‐0純度>9N
1-0-0単結晶シリコン; 円型シリコンターゲット；研究用 実験用 大学研究シリコン 高純度9N 抵抗値≦0.01オーム
最終更新日
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多結晶シリコンSiポリシリコンターゲットN型P型NonDope
多結晶シリコンターゲット蒸着用CVD装置、アニール炉拡散炉などの装置の部材として使用、高い純度と熱特性が求められる用途に最適材料
最終更新日
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酸化二ケルNiOターゲット高密度高純度光触媒用保護膜用磁性薄膜用
抵抗変化型メモリ（RRAM）、透明導電性薄膜（TCO）、ガスセンサー、スピントロニクスとして使用可能な酸化二ケル材料！
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酸化ニオブ(Nb2O5)ターゲット
高い屈折率を利用して、カメラ用レンズなどの光学製品の小型化や高性能化に貢献！積層セラミックコンデンサの誘電率を高める添加材として
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五酸化バナジウムV2O5ターゲット蒸着材高純度薄膜電子材料
五酸化バナジウム(V2O5)ターゲット V2O5薄膜用
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酸化チタン(TiO2)ターゲット
半導体製造プロセスや、HDDなどの記録メディア、フラットパネルディスプレイなどの薄膜形成に使用な酸化チタン！
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酸化スズ（SnO）ターゲット
電極として使用され、画面を構成する重要な材料！透明な電極として、画面のタッチ操作を可能、帯電防止膜、電磁波遮蔽膜などに！
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酸化インジウム（In2O3）ターゲット
液晶、有機EL、プラズマディスプレイなどでの電圧印加用電極材等で使用可能な酸化インジウム材料
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