◉ BHシリーズ基板加熱ヒーター Max 1600℃
◉ BHシリーズ基板加熱ヒーター Max 1600℃
３種類のサイズ（Φ1, 2, 4inch）4種類のヒーター素線材質（NiCr, Kanthal, Graphite, SiC）に限定して標準化、部品在庫を持つことにより短納期・安価な価格を実現しました。 大学実験室・研究機関に限定した数量限定の製品です。 【対応基板サイズ】 ◉ Φ1inch ◉ Φ2inch ◉ Φ4inch 【ヒーター素線材質】 ◉ Max 1000℃：NiCr, カンタル 素線（真空中, Ar, N2, He ,O2, H2） ◉ Max 1600℃：Graphite素線_（真空中, Ar, N2） ◉ Max 1650℃：Solid SiC素線_（真空中, Ar, N2, He, H2, O2） ■ 3 種類のサイズ, 4 種類のヒーター素線：NiCr, Kanthal, Graphite, SiC 素線 ■ 標準付属品：M6 スタッドボルト, または取付支柱 【オプション】 ● 標準外素線も用意しております（W, Nb, Mo, Pt/Re, WRe） ● 取付ブラケット ● ホルダー設置用タップ穴加工
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スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】
真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な「複合型」薄膜実験装置 nanoPVD-ST15A
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真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
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真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
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アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』
Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産まで多目的に幅広く対応するハイパフォーマンス機
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アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』
Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）
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スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
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スパッタリング装置『MiniLab-060』
蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み立てることができるセミカスタムメイド薄膜実験装置
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真空蒸着装置『MiniLab-080』
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
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スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』
高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式スパッタリング装置
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真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
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真空蒸着装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
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真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』
限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新の真空蒸着技術の全てを収納しました。
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スパッタリング装置『MiniLab-026』
小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
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真空蒸着装置『MiniLab-026』
小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
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アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
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