すべての製品・サービス
1～21 件を表示 ／ 全 21 件
-
1チャンバー型薬液スピン・スクラブ洗浄機
シングルチャンバーで各種洗浄からスピン乾燥まで完結。省スペース設計で研究開発や小ロット生産に対応
最終更新日
-
端面鏡面加工装置
スラリー不使用 濾過水、純水を媒体として鏡面研磨、粗研磨から洗浄まで行う研磨装置
最終更新日
-
精密部品洗浄装置（脱脂）
HDD用モーター部品（HUB・ケース等）の脱脂洗浄装置 構成例：洗剤＋US（脱脂洗浄）→純水リンス＋US→温風乾燥→真空乾燥
最終更新日
-
Siナゲット洗浄装置
Siナゲット洗浄装置 専用バスケットで自動搬送 化学研磨・酸切・高品位水洗から乾燥まで バスケットの揺動により洗浄効率を向上
最終更新日
-
300ｍｍカセットレス洗浄装置
ファイナルポリッシュ後の化学研磨工程で使用 ／ 50枚を一括処理 ／ 19nμm/5個の高清浄度を達成
最終更新日
-
FOUP洗浄装置
洗浄しにくい凹凸部を高圧パルスジェットで洗浄！手作業よりも安定した洗浄効果が得られます。
最終更新日
-
FOSB洗浄装置
洗浄しにくい凹凸部を高圧パルスジェットで洗浄！手作業よりも安定した洗浄効果が得られます
最終更新日
-
ボックス洗浄装置
洗浄しにくい凹凸部を高圧パルスジェットで洗浄！手作業よりも安定した洗浄効果が得られます
最終更新日
-
キャリア（カセット）ボックス洗浄装置
洗浄しにくい凹凸部を高圧パルスジェットで洗浄！手作業よりも安定した洗浄効果が得られます
最終更新日
-
高圧断続スプレー「DP-Gun」
各種マスクやガラス、ウェハー研磨後の洗浄に！1秒間に30回のノズル開閉が可能なため、少ない水量で繰り返しの衝撃を与えます。
最終更新日
-
高圧パルスジェット DP-Gun マスク・ガラス・ウェハー洗浄に
同じ圧力なら水の使用量が1/3、同じ流量なら圧力が3倍、少ない流量で繰返しの衝撃。マスクやガラス洗浄ウェハ研磨後スラリー除去に。
最終更新日
-
乾式散布装置「微粒子対応 分散・散布装置」
数μmから数百nmの粒子を摩擦帯電により分散、均一に散布する、乾式散布装置です。帯電量フィードバック制御で安定した散布を実現！
最終更新日
-
乾式散布装置「卓上型 簡易散布装置」
数μmから数百nmの粒子を摩擦帯電により分散、均一に散布する、乾式散布装置です。帯電量フィードバック制御で安定した散布を実現！
最終更新日
-
乾式散布装置「ドライスペーサー散布装置」
数百nm〜数十μmの粒子を摩擦帯電により分散、均一に散布する、散布装置です。帯電量フィードバック制御で安定した散布を実現します。
最終更新日
-
シングルチャンバー型「ウェハ用多目的スピン・スクラブ洗浄装置」
1チャンバーで異物・金属汚染を取り除く省スペースな洗浄装置！洗浄方法の組合せにより量産から研究開発用途まで対応します。
最終更新日
-
LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置
ワーク表裏面に触れない搬送・乾燥と異物、金属汚染の除去を可能にした薬液洗浄装置！薬液によりブラシ洗浄との組合せにも対応です。
最終更新日
-
小径ウェハ（LT・SiC等2〜6インチ）両面同時スクラブ洗浄装置
ワーク表裏面に触れずに搬送・乾燥が可能なスクラブ洗浄装置！独自機構の表裏・側面の同時洗浄に加え超音波シャワー等の組合せも対応
最終更新日
-
ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（研究開発用）」
ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。
最終更新日
-
ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置（研究開発用）」
ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。
最終更新日
-
ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（量産型）」
ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。
最終更新日
-
省スペース型「スピン洗浄装置（多目的洗浄タイプ）」
１チャンバー型多目的スクラブ洗浄。１チャンバーで異物、金属汚染を取り除くことが可能！省スペースなので研究開発に好適
最終更新日