高精度ボンディングシステム『ADAT3 XF DBSG』

クリーンルームの増床なしで、生産能力を3倍に。

最終更新日 2026年09月01日

超高速ダイボンダー『ADAT3 XFシリーズ』

72K UPHの処理能力と高精度接合を実現。フリップチップや各種プロセスに対応し半導体製造の生産性向上に貢献します

最終更新日 2026年09月14日

Chip-to-Waferシステム 『C2W』

毎時40,000個超の高速処理と5μm未満の高精度を実現。フェースアップやフリップチップなど多角的な組み立てに対応します

最終更新日 2026年09月14日

大容量RFIDインレイボンダー『ADAT3 XF タグライナー』

毎時48,000個の処理能力と100%光学検査を両立。紙など多角的なウェブ素材に対応しRFIDインレイ製造を強固に支えます。

最終更新日 2026年09月11日

WLCSP用ダイソーター 『ADAT3 XF DS』

1時間あたり60,000ユニットの処理能力。速度を落とさずにダイの6面検査を実施し品質確保と生産性向上に貢献します

最終更新日 2026年09月14日

両面表面・厚み測定システム 『CT600ST』

2個のクロマティック共焦点ラインセンサーを搭載。毎秒2×384,000データポイントの高速高精度な両面厚み解析を実現

最終更新日 2026年09月14日

非接触表面計測システム 『CT350』

最大350×350mm²範囲で高分解能な3D光学測定を実現。6種類のセンサー技術に対応し広範な表面解析をサポートします

最終更新日 2026年09月14日

非接触式多層膜厚検査システム

必要なのは1回のスキャンだけ！テラヘルツパルスが各層の材質の境界を瞬時に判定

最終更新日 2026年08月04日

【半導体製造向け】リードフレーム用めっき装置

貴金属ロス削減と自動品質管理。ドイツ製技術とAI検査でコスト低減と品質向上。

最終更新日 2026年10月06日

リードフレーム用めっき装置

貴金属ロス削減と自動品質管理。ドイツ製の高度なめっき技術とAI検査により、製造コスト低減と高い品質水準を両立します。

最終更新日 2026年08月27日

非接触テラヘルツ塗膜膜厚測定システム『Irys』

非接触・非破壊で多層塗膜の厚さを同時測定。監視ソフトと連動し塗装品質管理と素材節約に貢献します。

最終更新日 2026年09月09日

焼結プレス装置『X-SINTER P200Xシリーズ』

パワーエレクトロニクス部品の高信頼性接合技術！ご興味頂いた方には装置のビデオをお送りします！

最終更新日 2026年08月04日

高真空キャッパー

食品の保存を一変させる新しい包装技術！ガラス瓶詰め製品の長寿命化を実現します

最終更新日 2026年08月04日

高圧ホモジナイザー・高圧ポンプ│BOS社

粒子をサブミクロン単位に縮小・均質化。少ない水や電力で稼働し、多様な産業の生産工程と機器の長期運用を支援します

最終更新日 2026年09月09日

クックチルシステム

味、食感、香りを保ちながら、45日前に大量に生産することができるシステムをご紹介

最終更新日 2026年08月04日

骨だし・スープ製造ライン│COCTIO社

未利用の動物の骨から高価値なスープやソースを抽出。密閉自動システムで衛生的なクリーンラベル製品の工業生産を実現します

最終更新日 2026年09月09日

スープ・ソース自動製造装置『COCTIO AiOS 4300』

無添加の料理用ボーンブロスを製造！自動化されたターンキー処理ラインを提供

最終更新日 2026年08月04日

本人確認・身分証鑑別ソリューション│ Regula社

16,500以上の文書データベースと顔生体認証で身分証を正確に検証。手動チェックを削減し偽造防止を支援します

最終更新日 2026年09月09日

文書・紙幣 偽造鑑別装置『Regula 4308M』

上下2ライン光学系とデュアルフィルターで書類や紙幣を精密検証 。超高解像度画像により数秒で正確な真偽鑑定を実現します

最終更新日 2026年09月09日

バイオ研究用 パルス電源『EPULSUS-FBML1-5』

単一細胞の電気穿孔から多電極を用いた生体医療プロトコルまで、EPSジェネレーターは、生命科学研究が求める波形制御を実現

最終更新日 2026年09月21日

多電極4CHパルス発生器『EPULSUS-FPM4-10』

パルス電場の生物学的応用に、一般的な高電圧電源では実現できないレベルの波形精度を実現

最終更新日 2026年09月21日

産業用パルス発生器『EPULSUS-BM3B-24』

高出力産業用パルス電界発生器。　高スループット生産ラインの処理量拡大や現場強度の向上に貢献します

最終更新日 2026年09月21日

産業用パルス発生器『EPULSUS-BM3B-12』

産業用パルス電界発生器。電圧12kV・ピーク電流500A対応。出力9kWの産業用モデルで連続生産ラインを支えます。

最終更新日 2026年09月21日

研究用PEFシステム『EPULSUS-BM1A-12』

電圧12kV・出力3kW超対応。バッチおよび連続処理チャンバー付属で実験室からパイロット研究まで対応します

最終更新日 2026年09月09日