リフロー炉内洗浄

半田付け工程において、蒸発したフラックスやソルダーレジストから出るガスがリフロー炉の内面に蓄積されてます。フラックスの蓄積や放出ガスの量が増えると、各ゾーンのピーク温度が安定して到達できなくなり、不安定な温度プロファイルになります。更に、後続のリフローにおいて、放出ガスによるコンタミが次の基板上に再蓄積されます。リフロー炉の定期的な洗浄はリフロープロセスの安定性をもたらします。ゼストロンはMPC(R)テクノロジー（マイクロフェーズ技術）をベースとした水系洗浄剤や、FAST(R)テクノロジー（速効性界面活性剤技術）をベースにした最新の界面活性剤系洗浄剤を提供しております。高い洗浄性に加え、従来のアルコール製品と比べて引火点を持たないため、暖かい表面温度での使用が可能で、メンテナンスによるリフロー炉の停止時間を短くすることが可能です。