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【共同研究】ギ酸リフローデバイスの洗浄効果検証

ギ酸リフローについて詳しく解説!洗浄ノウハウをご紹介します

ギ酸リフローとは、対応する専用はんだを使用しフラックスレスで はんだ接合ができる画期的な接合プロセスです。 フラックスの作用の1つである還元作用をギ酸で代替することで大幅に フラックス成分を低減化できます。 パワーデバイスの分野では、ボイドの発生を抑えられ、低温域で接合できる 利点が大きいギ酸リフロー方式によるはんだ付けが広まりつつあります。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 ※PDF資料は先端電子部品の洗浄技術について解説した技術資料です。

関連リンク - https://www.zestron.com/jp/know-how/case-study-sup…

基本情報

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【資料】先端電子部品の洗浄技術 メカニズムと残存汚れの評価法

技術資料・事例集

取り扱い会社

ゼストロンはドイツを本社とする『電子基板・メタルマスク等の洗浄剤メーカー』です。 有機溶剤・VOCの削減、また使用量低減によるコスト削減を可能とする地球環境に優しい水系洗浄剤を主力としております。 また、神奈川のテクニカルセンターでは、【洗浄テスト】を実施しており、お客様への徹底した技術フォローを得意としております。 市場シェアはヨーロッパでは7割、アメリカ・中国・東南アジアでは4割程度と多くのお客様からご支持をいただいております。 特に、半導体後工程・自動車・スマートフォン・医療機器等高度な技術水準を要求される分野において、お客様からの高い評価をいただいております。 ※弊社は洗浄工程の問題に対するサポート対応を基本的には無償で行っております。  洗浄に関するご要望がございましたら、ご相談だけでもいただけると幸甚です。

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