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【共同研究】活性剤の洗浄性 低スタンドオフ部の残留性検証

リーク電流の発生や絶縁抵抗性の悪化に直接的に起因!洗浄ノウハウをご紹介

はんだを使用した接合工程において優れた無洗浄技術が確立している 日本市場ではありますが、 様々な課題が生じるケースが増加しており、 年々洗浄の需要は高まっています。 増加し続ける洗浄需要の背景の一つとして、イオン残渣への対応が あげられます。 イオン残渣は、基本的に視認が難しい残渣であり、時間の経過とともに さまざまな形態に変化する可能性があり、リーク電流の発生や絶縁抵抗性の 悪化に直接的に起因します。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 ※PDF資料はイオン残渣の課題と分析方法について解説した技術資料です。

関連リンク - https://www.zestron.com/jp/know-how/case-study-kok…

基本情報

※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 ※PDF資料はイオン残渣の課題と分析方法について解説した技術資料です。

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【資料】イオンとの共存共栄を目指す イオン残渣の課題と分析手法

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取り扱い会社

ゼストロンはドイツを本社とする『電子基板・メタルマスク等の洗浄剤メーカー』です。 有機溶剤・VOCの削減、また使用量低減によるコスト削減を可能とする地球環境に優しい水系洗浄剤を主力としております。 また、神奈川のテクニカルセンターでは、【洗浄テスト】を実施しており、お客様への徹底した技術フォローを得意としております。 市場シェアはヨーロッパでは7割、アメリカ・中国・東南アジアでは4割程度と多くのお客様からご支持をいただいております。 特に、半導体後工程・自動車・スマートフォン・医療機器等高度な技術水準を要求される分野において、お客様からの高い評価をいただいております。 ※弊社は洗浄工程の問題に対するサポート対応を基本的には無償で行っております。  洗浄に関するご要望がございましたら、ご相談だけでもいただけると幸甚です。

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