マスク洗浄機｜全自動マスク洗浄装置「TWC-200A」
マスクに付着した1μm以上のパーティクルとレジスト残渣を一挙に完全除去
基本情報
■主な特長 ・100,000,000円前後のマスク代を毎年削減※ ・マスクに付着したレジストを簡単に除去 ・マスクに付着したパーティクルを簡単に除去 ・マスクは消耗品から永久使用へ ・洗浄液は環境にやさしいマイルドな水溶性薬液を開発 ・熱硫酸や硫酸過水などの危険から解放 ・高価なリムーバーや現像液なども不要
価格帯
納期
型番・ブランド名
TWC-200A
用途／実績例
■デザインルールL/S（Line and Space ）1μm以上のフォトマスクの洗浄に最適 FPD（フラットパネルディスプレイ）、MEMSデバイス、ファインパターンPCB/FPC/TAB、化合物半導体、薄膜電子部品など。
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取り扱い会社
株式会社テクノビジョンは、1987年9月創業以来、洗浄技術、組立技術をコアーに自社製品の開発、製造、輸出入業務に取り組んでおります。 今日のハイテク産業の中でお客様のニーズにお応えし、お客様の立場に立った視野で技術、製品、及びサービスの提供を目指していく所存でございます。
