洗浄装置関連
洗浄装置関連
半導体製造プロセスの前工程において使用する洗浄装置を中心とした製品群のご紹介 ◆FOUP洗浄装置 ◆SMIF&カセット洗浄装置 ◆フォトマスク洗浄装置 縦型コンパクトタイプ ◆フォトマスク洗浄装置 PDP・大判用フォトマスク対応装置 ◆新型マスク洗浄装置 TWC-300 ◆紫外線オゾン洗浄装置 ◆スーパークリーンヒーター
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洗浄装置|ウェハーカセット・キャリア洗浄装置「 TCC-803」
ハイエンド、高付加価値製品の製造プロセスで用いられるウェハーカセット、キャリアー、ボックス等の精密洗浄を 目的とした洗浄装置。
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フォトマスク洗浄装置 | 縦型コンパクトタイプ TWE-200
スクラブ洗浄・リンス・乾燥を一台で行いフォトマスクに付着したゴミや汚れを洗浄するマスククリーナー
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フォトマスク洗浄装置|簡易型マスク洗浄装置TWC-302
「スクラブ洗浄+リンス」&「Hot純水乾燥」の2槽式簡易型マスク洗浄装置
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フォトマスク洗浄装置|PDP・大判フォトマスク用 TW-1000
スモールサイズからラージサイズまで、スクラブ洗浄・リンス・乾燥を1台で実施!
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マスク洗浄機|全自動マスク洗浄装置「TWC-200A」
マスクに付着した1μm以上のパーティクルとレジスト残渣を一挙に完全除去
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簡易型マスク洗浄装置|簡易洗浄ユニット
簡易洗浄ユニットは、最大7インチマスクサイズまで対応できる簡易洗浄ユニットです。
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UV(紫外線)オゾン洗浄装置| UV-208/UV-312
UV光源に高密度グリッド形状の低圧水銀ランプを採用
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