フォトマスク洗浄装置｜簡易型マスク洗浄装置TWC-302
「スクラブ洗浄＋リンス」＆「Hot純水乾燥」の2槽式簡易型マスク洗浄装置
基本情報
■主な特長 ・ワークの【スクラブ洗浄・リンス・乾燥】を一台の装置でスピーディーに実施。 ・スクラブ洗浄用特殊ブラシにてワークに傷を付けず、洗浄ムラなく精密洗浄可能。 ・縦型処理の為、ワークにストレスがかからない設計。 ・少量多品種、R&D用途の基板洗浄にも最適。 ・乾燥は、ホット純水乾燥。
価格帯
納期
型番・ブランド名
TWC-302
用途／実績例
フォトマスク：半導体用、液晶用、有機EL用、薄膜デバイス用、ICパッケージ用、PWB用、FPC用、その他、板状基板等洗浄可
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取り扱い会社
株式会社テクノビジョンは、1987年9月創業以来、洗浄技術、組立技術をコアーに自社製品の開発、製造、輸出入業務に取り組んでおります。 今日のハイテク産業の中でお客様のニーズにお応えし、お客様の立場に立った視野で技術、製品、及びサービスの提供を目指していく所存でございます。
