酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置
広範な膜特性の制御可能！大幅なパーティクル低減および生産性を向上します
基本情報
【その他の特長】 ■ラジカルプラズマクリーニングシステムによる大幅なパーティクル低減および生産性向上 ■トレイ搬送にも対応可能 ■マルチチャンバ仕様も製作可能 ■各種オーダーメイドも製作 ■デモ機にてサンプル処理を実施 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■半導体 ■MEMS ■有機EL ■太陽電池 ■電子部品 ■光学部品 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
カタログ（2）
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取り扱い会社
ジャパンクリエイトは、多様化する半導体産業に高精度化・省力化・微細化に対応すべく最先端技術にチャレンジして参りました。 私たちは、ハイテクノロジーに無限の可能性を求めて、ユーザーのニーズにマッチした確かなノウハウを独自性で創造します。 自らハイレベルな技術を目指して歩み続けます。
