真空加熱乾燥炉
スパッタターゲットの真空乾燥や真空部品の真空乾燥、治具等の真空乾燥に利用可能！
基本情報
【仕様】 ■有効寸法：600W x 500D x 200H ■試料棚（1段）：2段 ■加熱温度：最高450℃ ■真空排気：DP ■チャンバ冷却：水冷 ■制御操作 ・制御：PLC ・操作：タッチパネルまたはPC ■データロギング：外部メモリまたはPC ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■スパッタターゲットの真空乾燥 ■真空部品の真空乾燥 ■治具等の真空乾燥 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
カタログ（1）
カタログをまとめてダウンロード
取り扱い会社
ジャパンクリエイトは、多様化する半導体産業に高精度化・省力化・微細化に対応すべく最先端技術にチャレンジして参りました。 私たちは、ハイテクノロジーに無限の可能性を求めて、ユーザーのニーズにマッチした確かなノウハウを独自性で創造します。 自らハイレベルな技術を目指して歩み続けます。
