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NMP代替レジスト剥離液 『JELK-404』
NMP、アミン不含有でAlやCu配線との高選択性を持つレジスト剥離液
最終更新日
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ルテニウムエッチング液『RECシリーズ』
半導体デバイスやフォトマスクの材料として使用されるルテニウム用エッチング液
最終更新日
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クロムエッチング液『Crシリーズ』
サイドエッチングの少ないパターニングが可能なクロムエッチング液
最終更新日
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チタンエッチング液『TIシリーズ』
各種金属材料との選択エッチングが可能なチタンエッチング液
最終更新日
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積層膜エッチング液『KSMFシリーズ』
Ti/Al/Ti積層膜のウェットエッチングが可能なAl積層膜エッチング液
最終更新日
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CMP後洗浄液『CMPシリーズ』
金属不純物やパーティクルの除去性に優れた各種CMP後洗浄液
最終更新日
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Ni下地用シアンフリー置換金めっき液 『Aurexel DP』
シアンフリー置換金めっき液による均一なAu薄膜の形成が可能！
最終更新日
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マイクロバンプ形成用無電解金めっき液 『Aurexel MD』
無電解金めっきにより、面内均一性に優れたマイクロバンプの形成を実現！
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銅エッチング液『GHP-3』『BTF-3』
表面粗さの小さい仕上がりが得られるCuエッチング液
最終更新日
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高純度くえん酸水溶液
金属不純物を低減した高純度くえん酸水溶液！
最終更新日
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ガラス基板洗浄液『クレア635N』
ガラス基板上の微粒子や有機物の除去性に優れた、希釈使用可能な洗浄液！
最終更新日
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シリコーン樹脂溶解剤『KSRシリーズ』
基板にダメージを与えず、シリコーン樹脂のみ容易に溶解除去が可能なシリコーン樹脂溶解剤！
最終更新日
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銀エッチング液、銀ナノワイヤーエッチング液『SEAシリーズ』
残渣除去性が高く、サイドエッチングが少ない精細加工が可能な銀合金エッチング液！
最終更新日
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透明導電膜エッチング液(ポリ向け)『ITOシリーズ』
型番によりCuダメージの抑制が可能な低抵抗ポリITO膜エッチング液！
最終更新日
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ウェーハ用洗浄液『Frontier Cleanerシリーズ』
ウェーハの微粒子(パーティクル)及び金属不純物を除去。Siウェーハの他、SiCやGaNなどの化合物ウェーハの洗浄に好適です。
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透明導電膜エッチング液(アモルファス向け)『ITO-07N』
SiO2、SiNxなど様々な下地膜に対しエッチング残渣無く加工可能なITOエッチング液！
最終更新日
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【注目素材】単層カーボンナノチューブ
高純度の単層カーボンナノチューブ、グラフェンなどの炭素ナノ材料を取り揃えています！
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有機EL材料洗浄液『OEL Clean シリーズ』
メタルマスクや蒸着装置の内部部品などに付着した有機EL材料を容易に洗浄！
最終更新日
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金エッチング液『AURUMシリーズ』
エッチング残渣が少なく高精細なパターニングが可能な金エッチング液！高精細なバンプや配線形成プロセスにおいて優れた加工形状を実現！
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空圧制御式 薬液供給装置『AID-S100』※特許出願中
電源を使わず薬液圧送！小型で運搬・設置もラクラク。高純度試薬・EL級薬品対応
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レジスト剥離液・ドライエッチング残渣除去液『JELKシリーズ』
ＮＭＰ非含有のレジスト剥離液。バンプ形成時の厚膜レジスト剥離にも好適！
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フロアーコーチ「KOACH Ex-F」（FERENA搭載）
ガイドスクリーンを使用することで、より広い空間をスーパークリーン化！
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フロアーコーチ KOACH F 1050-F（FERENA搭載）
積み木方式で臨機応変に対応が可能！超高性能フィルタ搭載フロアーコーチ
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連続コーチ「KOACH R 1050-F」（FERENA搭載）
クリーン空間を必要な分だけ広げることが可能！超高性能フィルタ搭載コーチ
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スタンドコーチ「KOACH C 900-F」（FERENA搭載）
局所クリーンの決定版！超高性能フィルタ搭載オープンクリーンベンチ
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テーブルコーチ「KOACH T 500-F」（FERENA搭載）
卓上作業に最適なコンパクトタイプ！超高性能フィルタ搭載テーブルコーチ
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新登場！高純度溶媒 「Primepureシリーズ」
最高レベルの品位を誇る試薬の誕生！30項目以上の保証スペックで試験研究活動を強力サポート！
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アルミエッチング液『混酸Alエッチング液』
微細加工が可能なAl用エッチング液！
最終更新日