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テープ剥離後の接着剤残渣対策に！半導体用テープ接着剤剥離液
テープ剥離後の接着剤残渣に対して優れた剥離性・溶解性を持つ剥離液！NMP、DMSO、TMAHフリーの環境配慮製品です。
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半導体後工程向けテープ洗浄液『EZ-シリーズ』
酸・アルカリ系の洗浄液をラインナップ！BG、DC等のテープ剥離後の洗浄液
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NMP代替レジスト剥離液 『JELK-404』
NMP、アミン不含有でAlやCu配線との高選択性を持つレジスト剥離液
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ルテニウムエッチング液『RECシリーズ』
半導体デバイスやフォトマスクの材料として使用されるルテニウム用エッチング液
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クロムエッチング液『Crシリーズ』
サイドエッチングの少ないパターニングが可能なクロムエッチング液
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チタンエッチング液『TIシリーズ』
各種金属材料との選択エッチングが可能なチタンエッチング液
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積層膜エッチング液『KSMFシリーズ』
Ti/Al/Ti積層膜のウェットエッチングが可能なAl積層膜エッチング液
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CMP後洗浄液『CMPシリーズ』
金属不純物やパーティクルの除去性に優れた各種CMP後洗浄液
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Ni下地用シアンフリー置換金めっき液 『Aurexel DP』
シアンフリー置換金めっき液による均一なAu薄膜の形成が可能！
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マイクロバンプ形成用無電解金めっき液 『Aurexel MD』
無電解金めっきにより、面内均一性に優れたマイクロバンプの形成を実現！
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銅エッチング液『GHP-3』『BTF-3』
仕上がりは滑らか、Cu表面の粗さ変化はわずか。
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高純度くえん酸水溶液
金属不純物を低減した高純度くえん酸水溶液！
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ガラス基板洗浄液『クレア635N』
ガラス基板上の微粒子や有機物の除去性に優れた、希釈使用可能な洗浄液！
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シリコーン樹脂溶解剤『KSRシリーズ』
基板にダメージを与えず、シリコーン樹脂のみ容易に溶解除去が可能なシリコーン樹脂溶解剤！
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銀エッチング液、銀ナノワイヤーエッチング液『SEAシリーズ』
残渣除去性が高く、サイドエッチングが少ない精細加工が可能な銀合金エッチング液！
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透明導電膜エッチング液(ポリ向け)『ITOシリーズ』
型番によりCuダメージの抑制が可能な低抵抗ポリITO膜エッチング液！
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ウェーハ用洗浄液『Frontier Cleanerシリーズ』
微粒子・金属不純物を強力除去 ─ Siはもちろん、SiC・GaN等の化合物ウェーハ洗浄にも最適
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透明導電膜エッチング液(アモルファス向け)『ITO-07N』
SiO2、SiNxなど様々な下地膜に対しエッチング残渣無く加工可能なITOエッチング液！
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【注目素材】単層カーボンナノチューブ
高純度の単層カーボンナノチューブ、グラフェンなどの炭素ナノ材料を取り揃えています！
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有機EL材料洗浄液『OEL Clean シリーズ』
メタルマスクや蒸着装置の内部部品などに付着した有機EL材料を容易に洗浄！
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金エッチング液『AURUMシリーズ』
エッチング残渣が少なく高精細なパターニングが可能な金エッチング液！高精細なバンプや配線形成プロセスにおいて優れた加工形状を実現！
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レジスト剥離液・ドライエッチング残渣除去液『JELKシリーズ』
ＮＭＰ非含有のレジスト剥離液。バンプ形成時の厚膜レジスト剥離にも好適！
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フロアーコーチ「KOACH Ex-F」（FERENA搭載）
ガイドスクリーンを使用することで、より広い空間をスーパークリーン化！
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フロアーコーチ KOACH F 1050-F（FERENA搭載）
積み木方式で臨機応変に対応が可能！超高性能フィルタ搭載フロアーコーチ
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連続コーチ「KOACH R 1050-F」（FERENA搭載）
クリーン空間を必要な分だけ広げることが可能！超高性能フィルタ搭載コーチ
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スタンドコーチ「KOACH C 900-F」（FERENA搭載）
局所クリーンの決定版！超高性能フィルタ搭載オープンクリーンベンチ
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テーブルコーチ「KOACH T 500-F」（FERENA搭載）
卓上作業に最適なコンパクトタイプ！超高性能フィルタ搭載テーブルコーチ
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アルミエッチング液『混酸Alエッチング液』
微細加工が可能なAl用エッチング液！
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