【分析事例】酸化物半導体
【分析事例】酸化物半導体
酸化物半導体の分析事例をご紹介します
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【分析事例】SIMSによる酸化物ReRAM動作領域の元素分布評価
酸化物デバイスにおける局所元素分布を酸素同位体を用いて高感度に評価
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2次元検出器を用いたX線回折測定
XRD：X線回折法
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【分析事例】SIMSによる極浅注入プロファイルの評価
極浅い領域においてもドーパント分布・接合の評価が可能
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【分析事例】極薄SiON膜の組成・膜厚評価
光電子の平均自由行程を用いた膜厚の見積もり
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【分析事例】IGZO
酸化物半導体のXRD・XRR分析事例
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【分析事例】Si自然酸化膜の膜厚評価
光電子の平均自由行程を用いた膜厚の見積もり
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【分析事例】X線によるZn系バッファ層の複合評価
組成・結合状態・構造・密度の評価が可能
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【分析事例】IGZO薄膜のXAFSによる局所構造解析
酸化物半導体中、金属元素の価数・配位数・構造秩序性の評価
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【分析事例】IGZO膜中H濃度評価
IGZO膜中Hについて、高感度で深さ方向分布の評価が可能
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【分析事例】IGZO膜へのTi拡散評価
SSDP-SIMSによる高濃度層の影響を避けた測定
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【分析事例】IGZO膜の局所結晶構造解析
電子回折で結晶性・配向性を連続的に評価
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【分析事例】IGZO膜の化学状態評価
XPS・UPSを用いた結合状態・電子状態評価
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【分析事例】XPSによるGaN膜の組成・結合状態評価
目的に合わせた測定条件で評価を行います
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【分析事例】エッチングによる有機付着物除去
表面汚染を除去してXPSによる評価を行います
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ケミカルシフトによる金属酸化物の価数評価
XPS：X線光電子分光法
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電子回折の種類と特徴
TEM：透過電子顕微鏡法
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【分析事例】酸化ガリウムGa2O3膜表面近傍の金属元素濃度評価
極浅い領域でも高感度に分析
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【分析事例】XAFSによるシリコン酸化膜評価
シリコン周囲の局所構造解析、中間酸化物の定量、バルク・界面の評価
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【分析事例】酸化・窒化薄膜のバンドギャップ評価
XAFSとXPSの複合解析によって高精度なバンドギャップ評価が可能
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【分析事例】TEMによる多元系金属微粒子の結晶構造観察
InGaZnO4粒子の超高分解能STEM観察
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【分析事例】高温XRDによる熱分解生成物の同定
昇温しながらXRD測定が可能
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【分析事例】高温XRDによる金属膜の評価
昇温過程での相転移・結晶性変化を追跡評価
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GC_MSによるウエハアナライザーを用いた有機汚染評価
GC/MS：ガスクロマトグラフィー質量分析法
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代表的な材料・目的別のTDS解析例
TDS：昇温脱離ガス分析法
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【分析事例】メルブロミンの皮膚への浸透性評価
価電子帯・ギャップ内準位について元素別の情報が得られます
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【分析事例】X線吸収・発光分光によるバンド構造評価
材料の価電子帯・伝導帯・ギャップ内準位の詳細な情報が得られます
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界面および深さ方向分解能について
SIMS：二次イオン質量分析法
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クリーンルーム内有機化合物の評価方法
GC/MS：ガスクロマトグラフィー質量分析法
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【分析事例】セラミックス材料に含まれる微量金属の価数評価
ppmオーダーの微量金属も評価可能です
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AFMデータ集
AFM :原子間力顕微鏡法
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