溶剤系洗浄剤によるフラックス洗浄の落とし穴
イオン残渣見逃していませんか。フラックス洗浄の落とし穴について解説
様々な分野で使用されている有機溶剤は、現在の化学工業において 不可欠な存在であり、使用を完全に止めることは難しいのが現状です。 近年では各業界における技術躍進と企業努力により、有機溶剤の使用量・ 大気排出量は大きく削減されてきていますが、日本の電子デバイスの フラックス洗浄において、有機溶剤を主体とした洗浄剤が広く使われています。 しかし、フラックス洗浄は実質的に「複合物質残渣洗浄」へと変化しており、 溶剤系洗浄剤は、ロジンなどの有機成分に対しての有効性は非常に高いですが、 イオン性物質や難溶性金属塩をほとんど溶かすことはできないため、 「溶解」させる手法での除去は困難です。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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取り扱い会社
ゼストロンはドイツを本社とする『電子基板・メタルマスク等の洗浄剤メーカー』です。 有機溶剤・VOCの削減、また使用量低減によるコスト削減を可能とする地球環境に優しい水系洗浄剤を主力としております。 また、神奈川のテクニカルセンターでは、【洗浄テスト】を実施しており、お客様への徹底した技術フォローを得意としております。 市場シェアはヨーロッパでは7割、アメリカ・中国・東南アジアでは4割程度と多くのお客様からご支持をいただいております。 特に、半導体後工程・自動車・スマートフォン・医療機器等高度な技術水準を要求される分野において、お客様からの高い評価をいただいております。 ※弊社は洗浄工程の問題に対するサポート対応を基本的には無償で行っております。 洗浄に関するご要望がございましたら、ご相談だけでもいただけると幸甚です。
