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【オーダーメイド製作実績】蒸着装置
「2段階複合Pt成膜装置」などの実績を保有！ご用命の際はお問い合わせください
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真空加熱乾燥炉
スパッタターゲットの真空乾燥や真空部品の真空乾燥、治具等の真空乾燥に利用可能！
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多元スパッタリング装置
基板温度900℃を実現！基板ステージに3軸機構を搭載し、均一な膜厚分布を実現
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有機EL用蒸着装置
プラズマクリーニング室、有機蒸着室、電極蒸着室、封止室等を自由に選択できます！
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立体物用スパッタリング装置
立体物成膜での高いカバレッジを実現！ 最大3台のスパッタカソードを搭載し、金属膜、酸化膜等の積層成膜が可能です！
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立体物用プラズマCVD装置
高い汎用性を備えたシンプルな構造！独自のプラズマ制御方式を採用しています
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【開発者目線を徹底】各種装置のオーダーメイド製造承ります
相談だけでも歓迎！設計から製作、組立まで自社で一貫して対応！各種装置製造でお困りの方は是非ご相談ください。※製作事例資料進呈中
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加圧RTA装置
基板加熱温度最高1000℃！基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減！
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Epitaxial-EB蒸着装置
最高900℃の高温プロセスが可能！エピタキシャル促進機構により単結晶成膜に適した製品です。
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High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置
半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで高速かつ安定した連続成膜が可能！
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『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』
半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで高速かつ安定した連続成膜が可能！
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アッシング装置
エッチング、アッシング及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れたコンパクトな装置です！
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スクリュー攪拌型粉体スパッタリング装置
省スペースで大容量！各種ご要望に合わせたオーダーメイドも製作可能！
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