【半導体製造向け】高精度パラレルキネマティクス P-733.2
再現性±1nm、XY軸100µmストローク。半導体製造装置向け高精度ナノポジショナー
半導体製造分野では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて極めて高い精度と安定性が求められます。微細化の進展により、ナノレベルの位置決め誤差がデバイス性能や歩留まりに直接影響する時代となっています。特に露光装置や検査装置では、再現性と安定性を兼ね備えた精密制御が不可欠です。 P-733.2は、再現性±1nmの高精度XYナノポジショニングを実現。100µmストロークと高剛性パラレルキネマティクス構造により、半導体製造装置への組込み用途にも適しています。高精度位置決めにより、工程安定化と歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・露光装置 ・マスク／ウェーハ位置決め ・検査・計測装置 【導入の効果】 ・再現性±1nmによる工程安定化 ・高精度位置決めによる歩留まり向上 ・安定動作による装置性能の最大化
基本情報
【特長】 ・ストローク：XY軸方向に100 x 100μm、高さ方向に～10μm ・静電容量センサーにより分解能～0.1nmを実現 ・直動式の高速バージョン ・真空対応および非磁性バージョン ・パラレル制御によるダイナミクスの向上／多軸の精密制御 【当社の強み】 ドイツ本社50年以上の実績と、日本法人30年の経験に基づき、お客様のニーズに最適な位置決めソリューションを提供します。ピエゾステージをはじめ、幅広い製品ラインナップと、グラナイト定盤などの周辺機器を含めた複合システムのご提案が可能です。
価格情報
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納期
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型番・ブランド名
P-733.2 XY ピエゾナノポジショナー
用途／実績例
応用例 ・画像処理／安定化 ・走査型顕微鏡 ・表面形状解析 ・バイオテクノロジー ・半導体試験 ・マスク／ウェハー位置決め ・マイクロマニピュレーション ・高平坦度／直進度のナノポジショニング
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