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高精度アライメント対応 スピンドル駆動式ゴニオメーターステージ
マイクロコンポーネントの配置や光学部品のアライメントに
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アライメント時間とコスト削減に貢献。高精度フォトニクス位置決め
超高精度ナノポジショニングリニアステージとACSコントローラーで構成されたシステム
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回転ステージ（光学アライメント／高精度角度補正）向け
レーザー・光学検査向け。微小角度補正により光軸ズレを抑え測定精度を安定化
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光結合品質を維持する3Dファイバーアライメントシステム
高再現XYZ制御により、光ファイバーやPIC実装工程の位置ズレと結合損失を低減
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高速アライメントの位置再現性を維持する小型ヘキサポッド
サブミクロン再現性と高ダイナミクス制御により、フォトニクス工程の高速位置補正に対応
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真空環境での位置決め課題に。ピーアイの真空対応製品一覧
ヘキサポッドからステージ、ピエゾまで、真空環境下に対応した製品
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超小型XYZナノステージ｜0.2nm分解能で微細位置ズレを低減
44mmキューブ筐体で、フォトニクス・半導体装置への高密度組込みに対応
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回転品質の基盤となるエアベアリング回転モジュール
摩擦ゼロ構造と200nm以下の高精度回転により、光学・計測工程の誤差を低減
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ピエゾZステージ｜高速Z動作でも位置再現性を維持する高剛性機構
0.3nm分解能と直接位置計測により、共焦点顕微鏡や表面計測のZズレを低減
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ピエゾZステージ｜高速Zスキャンでもフォーカス再現性を維持
100／200µmレンジと高速セトリングで、超解像・3D観察のピントズレを低減
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小型装置の高さ再現性を維持する高精度Zステージ
63mm角の省スペース設計で、フォトニクスや半導体装置の高精度Z制御に対応
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【半導体装置向け】ナノ変位測定 静電容量センサー D-510
サブナノメートル分解能・最大10 kHz帯域。ウェーハ位置制御に最適な非接触静電容量センサー
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【精密機械向け】サブナノ分解能・静電容量変位センサー D-510
サブナノメートル分解能の非接触変位測定。精密加工装置の位置制御と加工精度向上に貢献
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【研究開発向け】サブナノ分解能・静電容量変位センサー D-510
サブナノメートル分解能・最大10 kHz帯域 ナノレベルの非接触変位計測を実現
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【精密機械向け】高分解能静電容量センサー D-050・D-100
最大300µm測定範囲、0.01nm分解能の非接触変位センサー
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【ナノテク向け】高分解能静電容量センサー D-050・D-100
サブナノメートル分解能でナノ変位測定を実現。ナノ材料評価・ナノ位置決めに最適な非接触変位センサー
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【新製品】X-365 高精度モジュラー式XYガントリーシステム
精度・剛性・柔軟性を兼ね備えたXY機構
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【研究開発向け】小型リニアステージ・真空対応有り M-11x
サイズ60mm四方、XYZ軸対応のコンパクトリニアステージ
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【光学調整向け】真空環境対応有り・小型リニアステージ M-11x
サイズ60mm四方、XYZ軸対応のコンパクトリニアステージ
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【顕微鏡フォーカス向け】リニアアクチュエータN-472
慣性駆動と位置フィードバックで顕微鏡フォーカスを長期安定化
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【光学調整向け】リニアアクチュエータ N-472
慣性駆動と位置フィードバックで長期安定の光学微調整
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【顕微鏡向け】フォーカス調整に リニアアクチュエータ N-470
最大13 mmストロークで顕微鏡フォーカスを精密制御
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【光学調整向け】微細調整に最適なリニアアクチュエータ N-470
ミラー・光学素子の微細調整に最適な高保持力コンパクトアクチュエータ
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【半導体向け】ピエゾナノ位置決めアクチュエータ N-216
最大800Nの保持力と5nm分解能を実現。半導体製造装置の高精度位置決めを支える高推力ピエゾドライブ
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【光学調整向け】最大600Nの高荷重リニアステージ V-817
リニアモータ×高精度エンコーダで高荷重600Nでも滑らか・高速応答
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【半導体製造向け】ウェハ加工および検査に 高負荷リニアステージ
リニアモータ×エンコーダで高荷重600N（最大）でも滑らか＆高速応答
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【研究開発向け】滑らかで安定制御・高精XYステージ V-P01
高速・高精度な実験をサポートするXYステージ
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【レーザー加工向け】滑らか動作の高精度XYステージ V-P01
レーザー加工の切断工程に。高精度位置決めと高速移動を実現
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【計測機器向け】高精度XYステージ V-P01
校正作業の効率化と精度向上に貢献するXYステージ
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【光学向け】低速域でも滑らか動作・高精度XYステージ V-P01
レンズ調整の精度と効率を向上させるXYステージ
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