すべての製品・サービス
31～60 件を表示 ／ 全 295 件
-
【研究開発向け】高精度Z軸ボイスコイルモーターステージV-Z03
高速応答＆高剛性で、サブミクロン単位の精密Z軸制御を実現
最終更新日
-
【半導体検査向け】高剛性・高精度Zステージ V-Z03
高速・高精度なZ軸制御で、半導体検査の品質と効率を向上
最終更新日
-
【レーザー微細加工向け】高負荷リニアモーターステージ V-D07
光学機器の調整作業を精密かつスムーズに。高精度リニアステージ
最終更新日
-
【光学分野向け】NanoCube 6軸ピエゾシステム
6軸ナノポジショニングで光学系の微細調整を実現
最終更新日
-
【研究開発向け】光学用位相シフター S-312
干渉計・光学位相制御用オープンループZステージ
最終更新日
-
【光学向け】光学用位相シフター S-312
光学・干渉計向け 位相制御用オープンループZステージ
最終更新日
-
【研究開発向け】B-421 BIX 小型ピエゾ駆動リニアステージ
研究開発用途に対応｜最大33mmストロークの超小型ピエゾステージ
最終更新日
-
【光学調整向け】B-421 BIX 小型ピエゾ駆動リニアステージ
光学系の精密アライメントに対応する超小型ピエゾ駆動リニアステージ
最終更新日
-
【半導体製造向け】B-421 小型ピエゾ駆動リニアステージ
最大33mmストローク、半導体装置向け超小型ピエゾ駆動リニアステージ
最終更新日
-
【ライフサイエンス向け】N-332 ピエゾリニアステージ
細胞観察における高精度位置決めを実現するリニアステージ
最終更新日
-
【ナノテクノロジー向け】高発生力＆高精度ピエゾリニアステージ
ナノテクノロジー分野に最適。高発生力とサブナノ精度を両立するリニアステージ。
最終更新日
-
【光学顕微鏡向け】高発生力＆高精度ピエゾリニアステージ
光学顕微鏡の高精度走査に。サブナノ分解能と高発生力を両立するPICMAWalkドライブ
最終更新日
-
【半導体製造向け】高発生力＆高精度ピエゾリニアステージ
ピエゾWalk駆動、ナノメートル精度、半導体製造の位置決めに
最終更新日
-
【宇宙開発向け】ヘキサポッド H-850
±0.2µm再現性・6軸高精度制御。天文光学系の精密アライメントに。
最終更新日
-
【研究開発向け】ヘキサポッド H-850
±0.2µmの再現性、アブソリュートエンコーダ搭載の重荷重対応モデル
最終更新日
-
【製造業向け】ヘキサポッド H-850
最大250kgの重量物を高精度に位置決め。アブソリュートエンコーダ搭載。
最終更新日
-
【研究・実験向け】ヘキサポッド H-825
30kg耐荷重・±0.1µm再現性の6軸精密ヘキサポッド
最終更新日
-
【製造業向け】ヘキサポッド H-825
30kg耐荷重・±0.1µm再現性の6軸高剛性ヘキサポッド
最終更新日
-
【研究向け】パラレルキネマティック・ヘキサポッドH-811.I2
コンパクトながら高精度なリファレンスクラスの6軸位置決めシステム
最終更新日
-
【製造業向け】小型ヘキサポッド H-811.I2
コンパクトながら高精度な6軸位置決めシステムで製造工程を最適化
最終更新日
-
【バイオテクノロジー向け】PIHera XYピエゾステージ
細胞操作・ライブセル観察に最適。サブナノ精度で安定したXY位置決めを実現。
最終更新日
-
【顕微鏡向け】PIHera XYピエゾステージ
最大1800µmの長ストロークと、静電容量センサーによる優れた精度で顕微鏡のサンプル位置決めに最適
最終更新日
-
【半導体技術向け】可変ストローク対応 XYピエゾステージ
最大1800µmの長ストロークとナノ精度。独自の静電容量センサーで、物理的接触をせずに位置測定
最終更新日
-
【計測・検査向け】エアベアリング回転ステージ A-62x
摩擦ゼロの回転精度で、校正作業の精度向上に貢献
最終更新日
-
【光学調整向け】エアベアリング回転ステージ A-62x
ナノレベルの精度で光学系の調整をサポート
最終更新日
-
【半導体製造向け】エアベアリング回転ステージ A-62x
ナノレベルの精度で、半導体製造プロセスを革新。
最終更新日
-
高い移動精度と耐荷重性を備えたリニアステージ L-511
幅広い応用分野に対応した高精度リニアステージ
最終更新日
-
【精密測定向け】小型リニアエアベアリングステージ A-143
摩擦ゼロ、高精度位置決めを実現する小型エアベアリングステージ
最終更新日
-
【半導体製造向け】A-143 高精度リニアエアベアリングステージ
摩擦ゼロ、±0.2 µmの高精度位置決めを実現する小型ステージ
最終更新日
-
【FPD製造向け】小型リニアエアベアリングステージ A-143
摩擦ゼロ、高精度位置決め。FPD検査工程の品質向上に貢献。
最終更新日
