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【半導体製造向け】A-143 高精度リニアエアベアリングステージ
摩擦ゼロ、±0.2 µmの高精度位置決めを実現する小型ステージ
最終更新日
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【FPD製造向け】小型リニアエアベアリングステージ A-143
摩擦ゼロ、高精度位置決め。FPD検査工程の品質向上に貢献。
最終更新日
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【レーザー加工向け】A-143 高精度リニアステージ
レーザー切断の精度を向上。±0.2 µmの高精度位置決めを実現。
最終更新日
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【光学機器向け】小型リニアエアベアリングステージ A-143
摩擦ゼロ、高精度位置決め。光学機器の調整作業を革新。
最終更新日
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【光学アライメント向け】クリーンルーム環境での使用可 A-121
非接触・無摩耗で長寿命、ナノメートル単位の滑らかな動作を実現
最終更新日
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【半導体検査向け】高精度位置決めに最適 A-121
非接触・無摩耗で長寿命、ナノメートル単位の滑らかな動作を実現
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【計測・検査向け】高精度回転ステージ V-62xシリーズ
開口付で高剛性と1µm未満の偏心と平坦度を持つ高速・高精度動作を実現
最終更新日
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【半導体向け】V-62xシリーズ 高精度回転ステージ
開口付、高剛性、1µm未満の偏心と平坦度を実現
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【研究向け】高精度・高剛性・長寿命の回転ステージ V-62x
開口付で高剛性と1µm未満の偏心と平坦度を持つ高速・高精度動作を実現
最終更新日
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【レーザー加工向け】ダイレクトドライブ高精度回転ステージ
開口付で高剛性、1µm未満の偏心と平坦度を実現する高速・高精度回転ステージ
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【レーザー微細加工向け】産業用ヘキサポッド H-815
さまざまな方向で信頼性の高い位置決めを実行
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【光学部品向け】コンパクトな設計ながら6軸の動作を実行可能
フォトニクスにおける要求の厳しいアライメントプロセスに対応
最終更新日
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【半導体製造向け】産業用途向けヘキサポッド H-815
安定したウェーハ搬送を実現する産業用6軸位置決めシステム
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【製造業向け】高精度かつ小型・高速動作の6軸位置決めシステム
コンパクトながら高精度で高速動作を実現。信頼性の高い6軸位置決めシステム
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6軸ピエゾステージ｜光結合再現性を維持するNanoCube
±250µm＋±26.2mradの6自由度補正で、ファイバーアライメント時の光軸ズレを低減
最終更新日
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ナノレベルの制御で再現性を向上。研究現場向け「位置決め」製品特集
研究室・科学機器向け位置決めソリューションをサポートする製品ラインナップをご紹介
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位相シフター｜干渉計測時の位相再現性を維持する光学Zステージ
ティルト補正付きZ動作により、干渉計や光学測定時の光軸ズレを低減
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量産工程の位置再現性を維持する高精度ヘキサポッド
±0.05µm再現性と50nm微動制御により、光学組立工程の位置ズレと歩留まり低下を抑制
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ヘキサポッドシステム用コントローラ C-887.52X
PIヘキサポッド専用で、標準ソフトで直感的操作が容易
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重量物の位置再現性を維持する高耐荷重ヘキサポッド
250kg対応と±0.2µm再現性により、大型光学系や試験設備の高精度6軸補正を実現
最終更新日
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三次元計測の測定品質を維持するヘキサポッド
±0.1µm再現性と6軸制御により、光学アライメントや検査工程の位置補正を高精度化
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高荷重でもアライメント品質を維持するヘキサポッド
30kg対応と±0.1µm再現性により、半導体製造や光学調整工程の位置ズレを低減
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光学アライメント品質を維持する小型ヘキサポッド
±0.06µmの高再現性により、光ファイバーやフォトニクス部品の6自由度調整を安定化
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高い位置分解能を実現・非接触測定 単電極センサー D-510
分解能1 nm未満・最大帯域10 kHzの非接触変位計測センサー
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サブナノメートル分解能の位置センサー D-050・D-100
最大測定範囲150µm、高精度なナノ変位制御に対応
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顕微鏡用XYステージ｜長時間観察で位置再現性を維持するピエゾ駆動
10nm分解能と自己保持機構により、ライブセル・共焦点観察時の画像位置ズレを低減
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光学アライメントの位置ズレを抑えるリニアアクチュエータ
レーザー光路や光学ミラーの微調整後も、長時間安定した位置保持を実現
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光学ミラー調整の再現性を維持するリニアアクチュエータ
チップ・チルト調整後の位置ズレを抑え、真空環境でも長時間安定保持
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高荷重でも測定品質を維持するナノ位置決めアクチュエータ
保持力800Nと5nm分解能により、半導体検査やナノリソグラフィ工程の位置ズレを抑制
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多軸デジタルピエゾコントローラ E-727 高速制御タイプ
最大4軸対応、データ記録・波形生成機能も標準搭載
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