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【精密測定向け】小型リニアエアベアリングステージ A-143
摩擦ゼロ、高精度位置決めを実現する小型エアベアリングステージ
最終更新日
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【半導体製造向け】A-143 高精度リニアエアベアリングステージ
摩擦ゼロ、±0.2 µmの高精度位置決めを実現する小型ステージ
最終更新日
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【FPD製造向け】小型リニアエアベアリングステージ A-143
摩擦ゼロ、高精度位置決め。FPD検査工程の品質向上に貢献。
最終更新日
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【レーザー加工向け】A-143 高精度リニアステージ
レーザー切断の精度を向上。±0.2 µmの高精度位置決めを実現。
最終更新日
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【光学機器向け】小型リニアエアベアリングステージ A-143
摩擦ゼロ、高精度位置決め。光学機器の調整作業を革新。
最終更新日
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【光学アライメント向け】クリーンルーム環境での使用可 A-121
非接触・無摩耗で長寿命、ナノメートル単位の滑らかな動作を実現
最終更新日
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【半導体検査向け】高精度位置決めに最適 A-121
非接触・無摩耗で長寿命、ナノメートル単位の滑らかな動作を実現
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【計測・検査向け】高精度回転ステージ V-62xシリーズ
開口付で高剛性と1µm未満の偏心と平坦度を持つ高速・高精度動作を実現
最終更新日
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【半導体向け】V-62xシリーズ 高精度回転ステージ
開口付、高剛性、1µm未満の偏心と平坦度を実現
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【研究向け】高精度・高剛性・長寿命の回転ステージ V-62x
開口付で高剛性と1µm未満の偏心と平坦度を持つ高速・高精度動作を実現
最終更新日
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【レーザー加工向け】ダイレクトドライブ高精度回転ステージ
開口付で高剛性、1µm未満の偏心と平坦度を実現する高速・高精度回転ステージ
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【レーザー微細加工向け】産業用ヘキサポッド H-815
さまざまな方向で信頼性の高い位置決めを実行
最終更新日
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【光学部品向け】コンパクトな設計ながら6軸の動作を実行可能
フォトニクスにおける要求の厳しいアライメントプロセスに対応
最終更新日
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【半導体製造向け】産業用途向けヘキサポッド H-815
安定したウェーハ搬送を実現する産業用6軸位置決めシステム
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【製造業向け】高精度かつ小型・高速動作の6軸位置決めシステム
コンパクトながら高精度で高速動作を実現。信頼性の高い6軸位置決めシステム
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新製品：NanoCube 6軸ピエゾシステムP-616.65S
6自由度のナノ制御で微細調整を可能に｜フォトニクス、ファイバーアライメントなどの応用分野に
最終更新日
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ナノレベルの制御で再現性を向上。研究現場向け「位置決め」製品特集
研究室・科学機器向け位置決めソリューションをサポートする製品ラインナップをご紹介
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光学用位相シフター S-312
光学または干渉計アプリケーション向け高解像度オープンループZステージ
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量産工程の位置再現性を維持する高精度ヘキサポッド
±0.05µm再現性と50nm微動制御により、光学組立工程の位置ズレと歩留まり低下を抑制
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ヘキサポッドシステム用コントローラ C-887.52X
PIヘキサポッド専用で、標準ソフトで直感的操作が容易
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耐荷重～250kg ヘキサポッド H-850 絶対エンコーダ搭載
±0.2µmの再現性、アブソリュートエンコーダ標準搭載の重荷重対応モデル
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耐荷重30Kgのパラレルキネマティック・ヘキサポッドH-840
最大30kgの耐荷重と±0.1µm再現性を両立した高精度6軸制御
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コンパクトで30kgまで耐荷重可能なヘキサポッド H-825
30kgの耐荷重＆剛性設計で高負荷アプリにも対応
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ヘキサポッド（微細実装／6軸補正）光学アライメント向け
MEMS・フォトニクス実装向け。ナノ位置補正により微細アライメント精度を維持
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高い位置分解能を実現・非接触測定 単電極センサー D-510
分解能1 nm未満・最大帯域10 kHzの非接触変位計測センサー
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サブナノメートル分解能の位置センサー D-050・D-100
最大測定範囲150µm、高精度なナノ変位制御に対応
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ピエゾモーター顕微鏡用XY軸ステージ U-781 PILine
最大速度120mm/s、10nm分解能で高速・高精度走査を実現
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機械・光学部品のアライメントに リニアアクチュエータ N-472
慣性駆動＋インクリメンタルセンサで長期安定の微調整制御
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高推力・高安定位置決めを実現 リニアアクチュエータ N-470
ストローク最大13mm、ミラー・光学素子の微細調整に最適
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最大推力・600N 精密位置決めリニアアクチュエータ N-216
最大800Nの保持力と5nm分解能、ナノ位置決めに革新を
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