【光学調整向け】高精度パラレルキネマティクス P-733.2
再現性±1nm、XY軸100µmストローク。透過光光学系に最適な高精度ナノポジショナー
光学分野における精密な光軸調整や位置決めは、システム性能を最大化するための重要な要素です。特に高分解能顕微鏡や精密計測装置では、わずかな位置ずれが測定精度や再現性に大きく影響します。 高精度パラレルキネマティクス構造を採用した P-733.2 は、再現性±1nm のナノレベル位置決めを実現し、XY軸100µmのストロークで透過光アプリケーションに対応します。研究開発から装置組込みまで、光学系の高精度化や調整作業の効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・高精度顕微鏡 ・マスク/ウェーハの位置決め ・干渉計・光学計測装置 【導入の効果】 ・再現性±1nmの高精度位置決め ・透過光光学系へのスムーズな組込み ・光軸調整時間の短縮と開発効率向上
基本情報
【特長】 ・ストローク：XY軸方向に100 x 100μm、高さ方向に～10μm ・静電容量センサーにより分解能～0.1nmを実現 ・直動式の高速バージョン ・真空対応および非磁性バージョン ・パラレル制御によるダイナミクスの向上／多軸の精密制御 ・パラレル計測によるアクティブ軌道制御 ・摩擦のない精密フレクシャガイドシステム ・透過光アプリケーションに適した50 x 50mmのセンター開口部 【当社の強み】 ドイツ本社50年以上の実績と、日本法人30年の経験に基づき、お客様のニーズに最適な位置決めソリューションを提供します。ピエゾステージをはじめ、幅広い製品ラインナップと、グラナイト定盤などの周辺機器を含めた複合システムのご提案が可能です。位置決めに関するあらゆる課題に対し、総合的なサポートを提供します。
価格情報
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型番・ブランド名
P-733.2 XY ピエゾナノポジショナー
用途／実績例
応用例 ・画像処理／安定化 ・走査型顕微鏡 ・表面形状解析 ・バイオテクノロジー ・半導体試験 ・マスク／ウェハー位置決め ・マイクロマニピュレーション ・高平坦度／直進度のナノポジショニング
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