エアベアリング
エアベアリング
ピーアイのエアベアリングは、非接触エアベアリングとダイレクトドライブにより摩擦ゼロの滑らかな動作を実現。ナノレベル精度と優れた直進性で高精度の位置決めに対応しています。
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2m/s高速スキャン対応 ウェハ検査用XYステージ
摩擦レス駆動により、高速エリアスキャン時の測定品質を維持
最終更新日
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高速スキャン時の測定品質を維持するエアベアリングステージ
真直度±0.05µmと390mm/s高速動作により、半導体・光学検査工程の位置誤差を低減
最終更新日
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高速回転時の測定再現性を維持する回転ステージ
偏芯100nmと平坦度50nmにより、XCTや超精密計測の回転誤差を低減
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摩擦由来誤差を抑える半球型エアベアリング
±45°チルトと635kg耐荷重により、大型機器の高精度姿勢制御を実現
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【レーザーマーキング向け】エアベアリング A-311
エア浮上×リニアモータで摩耗ゼロ。最大速度2m/s、センサー分解能1nm
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【半導体検査向け】エアベアリング A-311
エア浮上×リニアモータで高速・高精度ウェーハ検査を実現
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【電子部品向け】エアベアリング A-311
エアベアリング×リニアモータによる非接触駆動。基板・部品検査の高速化と安定化に貢献
最終更新日
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【半導体製造向け】エアベアリング回転ステージ A-62x
ナノレベルの精度で、半導体製造プロセスを革新。
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【計測・検査向け】エアベアリング回転ステージ A-62x
摩擦ゼロの回転精度で、校正作業の精度向上に貢献
最終更新日
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【光学調整向け】エアベアリング回転ステージ A-62x
ナノレベルの精度で光学系の調整をサポート
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【光学アライメント向け】クリーンルーム環境での使用可 A-121
非接触・無摩耗で長寿命、ナノメートル単位の滑らかな動作を実現
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【半導体検査向け】高精度位置決めに最適 A-121
非接触・無摩耗で長寿命、ナノメートル単位の滑らかな動作を実現
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【FPD製造向け】小型リニアエアベアリングステージ A-143
摩擦ゼロ、高精度位置決め。FPD検査工程の品質向上に貢献。
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【レーザー加工向け】A-143 高精度リニアステージ
レーザー切断の精度を向上。±0.2 µmの高精度位置決めを実現。
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回転由来誤差を抑える高精度回転ステージ
200nm以下の偏芯性能により、ウェーハ検査や光学校正工程の測定精度を安定化
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長ストロークでも測定品質を維持するエアベアリングステージ
真直度±50nmと500mm/s高速搬送により、X線CTや半導体検査の位置誤差を低減
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高速動作時の微細位置ズレを抑えるボイスコイルステージ
5nm分解能と200mm/s高速応答により、半導体・光学工程の微細補正を安定化
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スキャンや高精度位置決めに エアベアリングステージ A-110
スキャニングまたは高分解能ポジショニングに最適なエアベアリングステージ
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回転品質の基盤となるエアベアリング回転モジュール
摩擦ゼロ構造と200nm以下の高精度回転により、光学・計測工程の誤差を低減
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大型ワークの回転測定品質を維持する回転ステージ
260mm大開口と300nm偏芯により、XCT・ビームライン用途の回転誤差を低減
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【精密測定向け】小型リニアエアベアリングステージ A-143
摩擦ゼロ、高精度位置決めを実現する小型エアベアリングステージ
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【半導体製造向け】A-143 高精度リニアエアベアリングステージ
摩擦ゼロ、±0.2 µmの高精度位置決めを実現する小型ステージ
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【光学機器向け】小型リニアエアベアリングステージ A-143
摩擦ゼロ、高精度位置決め。光学機器の調整作業を革新。
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【光学向け】大開口・エアベアリング回転ステージ A-68x
薄型・高精度、光学系の調整に最適なエアベアリング回転ステージ
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XYステージ（実装位置決め／高剛性搬送）多軸モーションユニット
半導体・電子部品実装向け。高再現性位置決めにより実装ズレを抑制し品質を安定化
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【研究開発向け】柔軟に構成可 多軸モーションシステム X-417
用途に応じて軸数や仕様を自由に構成できる多軸モーションシステム
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【光学向け】高精度位置決めに エアベアリングステージ A-110
光学系の精密調整に。高精度な位置決めを実現するエアベアリングステージ
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【計測校正向け】耐荷重最大100N エアベアリング A-110
高精度な校正作業をサポートするエアベアリングステージ
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焦点品質を維持するチップ/チルト対応エアベアリングステージ
Z軸±2.5mmと非接触チルト制御により、ウェーハ検査や光学調整時の焦点ズレを低減
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【半導体製造向け】Z方向・チップ/チルトステージ動作 A-523
1枚の薄型プラットフォームで、3軸動作可能な高精度エアベアリングステージ
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