【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式コンポーネント・制御機器設計によりバリエーションが豊富、様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。 MiniLabシリーズは、研究開発から小規模生産用途まで幅広く対応するハイコストパフォーマンスシステムです。 【スモールフットプリント・省スペース】 ・シングルラックタイプ(MiniLab-026/090):590(W) x 590(D)mm ・デュアルラックタイプ(MiniLab-070/080):1200(W) x 590(D)mm ・トリプルラックタイプ(MiniLab-125):1770(W) x 755(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または7”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。
基本情報
【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置 構成モジュール】 ◉ 製作範囲 抵抗加熱蒸着(TE)、有機膜蒸着(LTE)、電子ビーム蒸着(EB)、RF/DCスパッタリング(SP)、T-CVD/PE-CVD、プラズマエッチング(RIE) ◉ チャンバー ・026(26Litter)-TE/LTE/SP/CVD/Etch/*Globe Box option:MaxΦ6inch ・070(60Litter)-TE/LTE/EB/SP/Etch/:MaxΦ11inch ・080(80Litter)-TE/LTE/EB/SP/Etch/:MaxΦ11inch ・090(90Litter)*Globe Box option -TE/LTE/EB/SP/Etch/:MaxΦ11inch ・125(125Litter)-TE/LTE/EB/SP/Etch/CVD:MaxΦ12inch ※ その他仕様は当社ホームページ参照下さい。
価格情報
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納期
用途/実績例
・新素材/新材料/新技術開発(半導体・電子部品・ディスプレイ・エネルギー関係) ・先端技術開発 ・小規模試作生産 など
詳細情報
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MiniLab-026-TE/LTE/SP MiniLabシリーズ最小の、19inchシングルラックフレームスタンドアロン型薄膜実験装置。幅600 奥行き600の最小設置スペースの小型サイズに、TE(抵抗加熱蒸着)、 LTE(有機薄膜蒸着)、 SP(スパッタリング)実験が可能。小型ながらPID自動ループ成膜コントロール(手動も可)、同時成膜も可能。
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MiniLab-026-GB(グローブボックス収納型) MiniLab-026チャンバーを作業ベンチ内に設置、制御ユニットをベンチ下に収納したグローブボックスモデル。
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MiniLab-026-Etch/Anneal Station MiniLab-026チャンバーに、RFドライエッチングステージ・基板加熱ステージを搭載した装置。全てをMiniLabシリーズ19inchラックフレームに収納したスタンドアロン、グローブボックス収納したMiniLab-026-GBの応用型の2機種。マンチェスタ大学グラフェンGrとの共同開発品。独自の30W以下での低ダメージ・制御精度に優れたRIEシステムとの組合せでTMDC・2D開発に寄与します。
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MiniLab-070-TE/LTE/EB/Sputtering装置 『MiniLab-070』シリーズは、豊富なコンポーネントをモジュラー式に組み込むことにより、TE(抵抗加熱蒸着)、LTE(低温有機膜蒸着)、EB蒸着、RF/DCマグネトロンスパッタなどの幅広い目的に構成することができるR&D用装置です。上下昇降/基板回転/加熱・冷却ステージ・ロードロックなどのオプションも豊富。( 写真は6 pockets蒸着源を搭載したEBモデル)
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MiniLab-070 PECVD装置 『MiniLab-070-PECVD』は、4系統までのガスライン、 RF/DC電源ユニット, 基板加熱・回転ステージ(Max1200℃)を搭載したセミオート式プラズマCVD専用機。60L容積チャンバーに、RP(DP)+TMP搭載した高真空仕様に対応、安定したPLC/MFCによる真空・ガス圧力自動制御が行えます。ウエハーサイズ1~11inchまでの成膜実験が可能です。
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MiniLab-080-TE/LTE/SP ボックス型チャンバー:チャンバー高さ570mm、80リットル大型チャンバーにロードロック機構を追加できるMiniLab-060の上位機種。T/S距離調整幅が長く膜均一性の向上に寄与。
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MiniLab-090(*グローブBox収納型) 400x400x570の大型80L大容積チャンバーを作業ベンチ内に収納したMini-Lab-080のグローブボックスモデル。スライドドア開閉フロントローディング式、チャンバー背面からアクセスできるメンテナンス用ドア、大チャンバーながら作業ベンチを最大限活用した省スペース・ハイスペックモデル。真空蒸着・スパッタ・RFエッチなど多目的に使用いただけます。プロセス処理後のサンプルを大気・水分に露出せずクリーンな薄膜実験が可能です。
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MiniLab-125 大型大容積チャンバー(500x500x600mm)にMiniLabシリーズ全てのオプション搭載可能。研究開発から小規模生産用途までカバーするMiniLabシリーズの最上位フラッグシップモデル。ロードロックシステム・オートマスクチェンジャー・プラネタリードームなどのオプションが豊富。
関連動画
カタログ(37)
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■□【PyroMini】(パイロミニ)□■ 小型高性能赤外線温度センサー
高機能タッチパネル変換器で簡単設定・データロギング・microSDカードにデータ保存 PM2.2は光沢金属表面の測定も可能 【概要】 視認性の良い高輝度タッチパネルディスプレーで、温度レンジ・放射率・サンプリングレート等のパラメータを直感的に操作・設定。 microSDカードで長期間のデータ保存・管理が可能です。 (*オプションでディスプレー無しの変換器もあります) φ18mm x 45mmの小型センサヘッドで、狭い場所での温度測定も可能、耐ノイズ性に優れたセンサ・ケーブルを採用しておりますので、ロボットアームなどの動く機器への組込みにも適します。 PM2.2モデルは、短波長2.2um波長を採用、高温(Max2000℃)、光沢性のある金属材料表面の測定などにも対応します。 【特徴】 ◎ ワイドレンジ:-20〜1000℃(PM), 100〜2000℃(PM2.2) ◎ 優れた基本性能:精度±1%, 再現性±0.5%、240msec高速応答 ◎ 測定波長領域:8〜14μm(PM), 2.0〜2.2μm(PM2.2) ◎ 小型Φ18mm x 45mm
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★【PyroNFC】スマートホン設定式赤外線放射温度センサー★
温度範囲・放射率・アラーム等のパラメータをスマートホン、タブレットで設定 表示計器、計器用電源を必要とせず簡単に設定できます。 ● スマホ・タブレットを使い設定を行う事ができます。 ● 専用アプリをGoogle Playから無料ダウンロード(Android4.1〜5.1) ● AndroidのNFC通信を使い、センサ部にタッチするだけで読込み・書出しをします。 ● 超小型センサ(Φ31mm x t29mm)狭い場所でも温度測定が可能。 ● 高速応答125msec、高精度±1.5% ● 電圧出力(0-5V or 0-10V)、又はK熱電対出力 【その他仕様】 ◉ 視野角:15:1 ◉ 温度範囲:0℃〜1000℃ ◉ 測定波長領域:8〜14μm ◉ 放射率: 0.2〜1.0 ◉ 電源:24VDC(最小6V/10V〜最大28VDC) ◉ ケーブル:1m付属(最長30m延長可能) 【オプション】 ◉ 本体固定金具 ◉ 延長ケーブル ◉ エアパージキット
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■□【PyroCouple】□■ 小型非接触式赤外線温度センサー
小型計量・堅牢ボディ・高精度±1%・240msec高速応答 産業用機械制御用、生産現場の温度監視など多目的に応用できます。 【特徴】 ◎ アンプ・センサ一体型 ◎ 4-20mA出力(標準)、0-50mV、熱電対K, J出力(オプション) ◎ 精度:±1% or ±1℃(いずれか大きい値) ◎ 再現性:±0.5% or ±0.5℃(いずれか大きい値) ◎ 応答速度:240msec ◎ 保護等級:IP65 【その他仕様】 ◉ 視野角:2:1, もしくは15:1 ◉ 温度範囲: ・LT(-20℃〜100℃) ・MT(0〜250℃) ・HT(0〜500℃) ◉ 測定波長領域:8〜14μm ◉ 放射率:0.95(固定) ◉ 電源:24VDC ◉ 本体寸法:Φ18mm(径) x 103mm(長さ) ◉ 重量:約95g ◉ ケーブル1m(標準付属):延長最長3m(オプション)
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■□【PyroUSB】□■ USB接続式 高精度赤外線温度センサー
【概要】 標準付属の「CalexConfig」とUSBケーブル(1.8m付属)でWindowsPCに接続、PC上でセンサの測定パラメータ設定、測定結果の解析・CSV出力ができます。 1) 4-20mA出力 2) USB出力(USBバスパワーで動作) 3) 4-20mA/USB出力の同時使用 の3通りの使い方が可能です。 【特徴】 ◎ USBデータロギング/4-20mAアナログ出力の同時使用可能 ◎ 優れた基本性能:精度±1%, 再現性±0.5%、200msec高速応答 ◉ PUA2:短波長2.0〜2.4μmもカバー、金属表面も測定可能 ◉ PUA5:ガラス表面測定用に最適 波長5μm ◉ PUA8:一般用途 幅広い用途に 波長8-14um 【その他仕様】 ◉ 視野角:15:1, 25:1, 30:1, 又は75:1 ◉ 放射率設定範囲:0.1〜1.0 ◉ 電源:24VDC ◉ 本体寸法:Φ27.6mm(径) x 61mm(長さ) ◉ 重量:約155g ◉ アナログ信号ケーブル1m(標準付属、延長最長30mまで) *USBケーブル1.8m(USBケーブルは延長不可)
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◆OLED◆ 有機蒸着・高温用金属蒸発源 Max1500℃
OLED蒸発源は最高使用温度1500℃の真空装置用高温加熱ヒーターです。 蒸発温度の高い材料も蒸発することができますので、低温有機蒸着(~ 800℃)セルから、高温抵抗加熱蒸着(~ 1500℃)MBEセルまで、真空高温ヒーター・蒸着セルとして幅広い様々な用途に活用いただけます。 シャッター・アクチュエータ、水冷ジャケットも用意。 800℃以上の高温ヒーターは、内部シールドを備え、断熱・熱遮蔽を考慮した設計。 【主仕様】 ■最高制御温度:800℃、又は1500℃ ■使用環境:真空中・不活性ガス(*O2 は800℃まで) ■ヒーター:タングステンフィラメント ■るつぼ容積:1cc(最大充填量1.5cc) ■るつぼ材質:アルミナ ■ケース材質:SUS304, 又はモリブデン ■熱電対:K、又はC 【オプション】 ⚫︎るつぼ材質:PBN, グラファイト, 石英 ⚫︎ヒーター:NiCr 線, カンタル線(*O2 用) ⚫︎るつぼ容積:10cc(最大充填量15cc) ⚫︎シャッター:空圧式, 又はモーター駆動 ⚫︎水冷ジャケット ⚫︎コントローラー(ヒーター・シャッター制御)
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取り扱い会社
【Endless possibility_thermal engineering...】 当社は半導体・電子機器基礎研究用真空薄膜装置、CVD基板加熱用超高温ヒーター、実験炉、温度計測機器などを販売しております。 いつの時代でも欠かす事のできない「熱」に対する尽きぬ需要、基礎技術開発分野での様々なご要求にお応えすべく、最新の機器を紹介し、日本の研究開発に貢献してまいりたいと考えます。












































