【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置
小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適 蒸着・スパッタ・アニール等全ての作業をグローブボックス内でシームレスに行う事ができます。
OLED(有機EL), OPV(有機薄膜太陽電池), OTFT(有機薄膜太陽電池), 又, グラフェン, TMD(遷移金属ダイカルコゲナイド)などの2D材料における成膜プロセスでは、酸素・水分から隔離された不活性ガス雰囲気で試料を取扱う必要があります。 MiniLab-026/090-GBでは、PVDチャンバーをGB内に収納することにより有機膜用途の「酸素・水分フリー」実験環境をコンパクトな省スペース環境で実現します。 【特徴】 ◉ PVD成膜、スピンコート塗布・ホットプレートベーキングなど一連の作業を外気に晒すことなく、GB内でシームレスに行うことができます。 ◉ 省スペース:背面にチャンバーがせり出しませんので、スペースを取りません。 【MiniLab対象】 ◉ MiniLab-026(26ℓ容積):金属/絶縁物/有機材料蒸着、スパッタリング、プラズマエッチング、アニール ◉ MiniLab-090(90ℓ容積):金属/絶縁物/有機材料蒸着、EB蒸着、スパッタリング、プラズマエッチング、アニール ※ まずはご要求の仕様をご連絡下さい、ご要望に合わせシステム構成致します。
基本情報
【GB対応 MiniLab-026/090主仕様】 ◉ 基板サイズ:最大Φ6"(026)、最大Φ11"(090) ◉ チャンバ:SUS304製 UHV対応(*090はスライドドア式, 背面メンテナンスドア) ◉ 19inch制御ラックは作業ベンチ下に収納 ◉ MLチャンバー内成膜モジュール: ・抵抗加熱蒸着源(最大4元) ・有機蒸着源(最大4元) ・Φ2"マグネトロンカソード(最大3元) ・プラズマエッチング ・基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ(ドライスクロールポンプオプション) ◉ その他豊富なオプション *その他の詳細仕様は当社へお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
型番・ブランド名
MiniLab-026/090-GB
用途/実績例
OLED(有機EL) OPV(有機薄膜太陽電池) OTFT(有機薄膜太陽電池) グラフェン 2D材料(遷移金属ダイカルコゲナイドなどの二次元層状無機ナノ材料) 他
詳細情報
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TE1(1極)〜TE4(4極)抵抗加熱フィラメント *写真は3極式。予備ポートを多数備えたベースチャンバで、配置変更/増設を容易に行う事ができます。
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Basket type thermal source MiniLab-LT26A抵抗加熱蒸着装置用 バスケットタイプx4極式
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有機材料蒸着源セル LTES-1cc or 5cc Organic source cell for MiniLab series 容易に材料補充時のルツボ着脱作業が可能 アルミナ or 石英ルツボ 温度制御範囲80〜600℃ UHV対応 専用コントローラ LTEC-1S(1ch), LTEC-4S(4ch)にて高精度PID自動膜厚ループコントロールが可能(±0.1Å/sec)
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LT26A_Glovebox-system-installed-1 LT26A_Glovebox-system-installed-1
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LT26A_Glovebox-system-installed-2 LT26A_Glovebox-system-installed-2
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☆★☆★【nanoCVD-8G】グラフェン合成装置 ☆★☆★
◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温:1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度制御:±1℃ ◉ 高精度APC自動圧力制御システム:ガス3系統(Ar, H2, CH4) ◉ グラフェン作成用標準レシピ付属 ◉ コンパクトサイズ:405(W) x 415(D) x 280(H)mm ◆特徴◆ ・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理 ・最大30レシピ,30stepのプログラム作成可能 ・PCソフトウエア付属 USBケーブル接続,PC側でのオフラインレシピ作成→装置へアップ/ダウンロード, CSVデータ出力 ・最大試料サイズ:40 x 40mm:銅(ニッケル)箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板,他 ◆Model. nanoCVD-8G◆ ・グラフェン用標準プログラム付属 ・高真空プロセス, 高精度プロセス圧力制御 ・ロータリーポンプ標準付属 ・ガス供給3系統(Ar, H2, CH4) ・試料加熱ステージ(高純度グラファイト)Max1100℃ ・Kタイプ熱電対
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★nano BenchTopシリーズ 薄膜実験装置★
研究開発の現場で求められる均一性の高い「高品質」な薄膜を作成するための様々な条件を備えます。nanoシリーズはコンパクトボディに機能を凝縮した高性能装置です。 欠陥が少なく良質な成膜に欠かせない要素である高真空環境・十分なT/S調整距離を確保する堅牢で機密性が高いステンレスチャンバー・高真空ポンプを採用。又、全モデルに共通するIntelliDepソフトウエア。直感的で分かりやすいタッチパネル操作で作業者の習熟度を問わずどなたでも操作いただけます。 【nano Benchtopコンパクト薄膜実験装置】 ◉ nanoPVD-S10A:RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ◉ nanoPVD-T15A:有機膜・金属膜蒸着装置 ◉ nanoPVD-ST15A:蒸着・スパッタ混在 複合型薄膜実験装置 ◉ ANNEAL:ウエハーアニール装置 ◉ nanoCVD:グラフェン/CNT合成装置 ※ その他詳細仕様は当社までお問合せ下さい。
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◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置
OLED, OPV, OTFT等の有機薄膜蒸着用途に最適。温度応答性/安定性に優れた低温有機蒸着源、金属膜用蒸着元を採用。 難しい操作手順を必要とせずどなたでも直感的に操作ができる分かりやすいHMI。 PC用ソフトウエア'IntelliLink'付属:システムライブモニタ、CSVファイル保存、成膜レシピを作成登録保存。 ◉コンパクトサイズ:804(W) x 530(D) x 600(H)mm ◉重量:40kg〜70kg(装置構成による) ◉優れた基本性能 ・到達圧力 ≤5 x10-7mbar(*10-6mbar台まで最速15分) ・高性能ターボ分子ポンプ搭載 ・Φ2inchもしくはΦ4inch基板 ◉蒸着源 ・抵抗加熱式蒸着源 TE x 最大2基 ・有機蒸着源 LTE x 最大4基(抵抗加熱TEと混在の場合、2基まで) ◉7"タッチパネル ◉連続成膜 ・成膜プログラム自動制御 ・30種類のレシピ登録 ・高精度ワイドレンジ真空ゲージ ◉豊富なオプション ・基板回転 ・上下昇降 300mmストローク ・基板シャッター ・ドライポンプ(RP標準)
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【Lab6放電プラズマ生成 熱電子銃用ヒーター】
真空用 超高温円筒状ヒーターユニット 最高温度1800℃(グラファイト、C/Cコンポジット) ご要望の仕様にて都度製作致します。 さまざまな用途に応用できる高真空中での円筒状加熱ユニットです。 円筒状加熱範囲内に、試料を入れた坩堝の加熱、金属・セラミック・ワイヤー状サンプルの加熱、など目的に応じてカスタムメイド致します。 ◎ 使用可能環境:真空中, 不活性ガス中 etc.. ◎ 発熱体:Graphite, C/Cコンポジットヒーター、SiCコーティング、PGコーティング、タングステン、タンタル、など。 ◎ 製作範囲:ヒーター部(Φ150 x 100mm程度まで)導入フランジ、温度制御ユニット ◎ 用途:各種真空装置プロセスチャンバー内での試料加熱、放電プラズマ生成ユニット熱電子銃(Lab6)用、ガス供給系統配管急速加熱(液体急速気化) その他ご要望に応じ、特注仕様製作致します。詳細は当社までお問い合わせ下さい。
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nanoPVD-S10Aスパッタ装置 標準規格品登場!従来よりお求めやすい価格・短納期でご提供可能になりました。
標準 在庫規格品、従来よりお求めやすい低価格・短納期でのご提供が可能になりました。 *下記構成に限ります。又、在庫状況も変わりますので詳細は当社までお問い合わせください。 【nanoPVD-S10A標準構成仕様】 ● 基板ステージ:Φ4inch、基板シャッター付 ● 最高到達圧力:≤5 x10-7mbar(*10-6mbar台まで最速15分) ● 2"マグネトロンカソード x 2:自動連続多層膜, 2源同時成膜(RF/DCのみ) ● RF150W、DC780W 電源搭載 ● プロセスガス3系統(Ar, O2, N2) ● 主排気TMP、粗挽RP(*ドライポンプ オプション) ● Windows PCリモートソフトウエア"IntelliLink"付属:システムライブモニター、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング ● 水晶振動子膜厚センサ付属 【主な用途】 ・酸化膜、絶縁膜 ・金属・合金、導電性膜 ・化合物、反応性膜、他 【オプション】 ◉ 基板加熱ヒーター500℃、磁性材用カソード、ドライスクロールポンプ、など
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取り扱い会社
【Endless possibility_thermal engineering...】 当社は半導体・電子機器基礎研究用真空薄膜装置、CVD基板加熱用超高温ヒーター、実験炉、温度計測機器などを販売しております。 いつの時代でも欠かす事のできない「熱」に対する尽きぬ需要、基礎技術開発分野での様々なご要求にお応えすべく、最新の機器を紹介し、日本の研究開発に貢献してまいりたいと考えます。















































