超高温卓上型実験炉【Mini-BENCH furnace】
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
◉ 卓上サイズ 省スペース:258(W) x 360(D) x 363(H)mm(*2inch用チャンバー本体設置寸法) ◉ カスタマイズ自在なヒーター構造: - 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) - 面状ヒーター:Φ2"〜Φ4"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉ 昇温時間最速約15分(1500℃)、降温1500℃→100℃まで最短約40分(真空、およびガス置換雰囲気) ◉ ハイスペック&ハイコストパフォーマンス ◉ シンプルな構成、優れた操作性 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。
基本情報
◆装置構成◆ ご予算・目的に応じてご要望の構成をご提案致します。 (A)最小構成:チャンバー + 温度制御ユニット (B)上記最小構成(A) + 真空排気系(ポンプ、ゲージ、バルブ・真空配管類) ◆基本仕様◆ ・ヒーター:C/Cコンポジット, PGコートC/Cコンポジット(カーボン炉), タングステン, TaCコートグラファイト(メタル炉) ・断熱材:グラファイトフェルト材(カーボン炉), タングステン/モリブデン(メタル炉), 又はタングステン/モリブデン多層シールド(メタル炉) ・温度制御:デジタルプログラム調節計、C熱電対 ・到達真空度:10-3 Pa台(*但し空炉、高真空ポンプ仕様の場合) ・電源仕様:AC200V 50/60HZ 三相 6〜10KVA(*仕様による) ・冷却水:3L/min, 0.2Mpa 18〜20℃ ◆コントロールボックス仕様◆ ・プログラム温度調節計 ・DC電源装置、又は外付トランスボックス ・電流、電圧計 ・主電源SW ◆オプション◆ ・真空排気系(真空ポンプ、真空計、バルブ類) ・特注るつぼ ・架台 他
価格情報
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納期
型番・ブランド名
Mini-BENCH furnace Max2000℃
用途/実績例
◆主な応用アプリケーション◆ ・新素材開発 ・材料分析 ・その他各種先端材料開発に応用
詳細情報
カタログ(37)
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◆◇◆【nanoCVD-8G】 グラフェン合成装置◆◇◆
◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温:1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度制御:±1℃ ◉ 高精度APC自動圧力制御システム:ガス3系統(Ar, H2, CH4) ◉ グラフェン作成用標準レシピ付属 ◉ コンパクトサイズ:405(W) x 415(D) x 280(H)mm ◆特徴◆ ・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理 ・最大30レシピ,30stepのプログラム作成可能 ・PCソフトウエア付属 USBケーブル接続,PC側でのオフラインレシピ作成→装置へアップ/ダウンロード, CSVデータ出力 ・最大試料サイズ:40 x 40mm:銅(ニッケル)箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板,他 ◆Model. nanoCVD-8G◆ ・グラフェン用標準プログラム付属 ・高真空プロセス, 高精度プロセス圧力制御 ・ロータリーポンプ標準付属 ・ガス供給3系統(Ar, H2, CH4) ・試料加熱ステージ(高純度グラファイト)Max1100℃ ・Kタイプ熱電対
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☆★☆★【nanoCVD-WGP】ウエハースケール・グラフェン合成装置 ☆★☆★
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。 熱CVD、低温~高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイズ致します。 【装置構成例】 ・基板:Cu, Ni, 他..(フィルム, フォイル) ・原料:CH4, C2H4, solids (PMMA), etc.. ・プロセスガス:H2, Ar, N2, etc.. ・基板サイズ:Φ4inch ・150W, 13.56MHz RF電源 ・500℃~Max1100℃基板加熱 ・高精度プロセスガス圧力APC制御 ・マスフローコントローラー最大4ch
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■□【PyroCouple】□■ 小型非接触式赤外線温度センサー
小型計量・堅牢ボディ・高精度±1%・240msec高速応答 産業用機械制御用、生産現場の温度監視など多目的に応用できます。 【特徴】 ◎ アンプ・センサ一体型 ◎ 4-20mA出力(標準)、0-50mV、熱電対K, J, T出力(オプション) ◎ 精度:±1% or ±1℃(いずれか大きい値) ◎ 再現性:±0.5% or ±0.5℃(いずれか大きい値) ◎ 応答速度:240msec ◎ 保護等級:IP65 【その他仕様】 ◉ 視野角:2:1, もしくは15:1 ◉ 温度範囲: ・LT(-20℃〜100℃) ・MT(0〜250℃) ・HT(0〜500℃) ◉ 測定波長領域:8〜14μm ◉ 放射率:0.95(固定) ◉ 電源:24VDC ◉ 本体寸法:Φ18mm(径) x 103mm(長さ) ◉ 重量:約95g ◉ ケーブル1m(標準付属):延長最長3m(オプション)
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■□【PyroUSB】□■ USB接続式 高精度赤外線温度センサー
【概要】 標準付属の「CalexConfig」とUSBケーブル(1.8m付属)でWindowsPCに接続、PC上でセンサの測定パラメータ設定、測定結果の解析・CSV出力ができます。 1) 4-20mA出力 2) USB出力(USBバスパワーで動作) 3) 4-20mA/USB出力の同時使用 の3通りの使い方が可能です。 【特徴】 ◎ USBデータロギング/4-20mAアナログ出力の同時使用可能 ◎ 優れた基本性能:精度±1%, 再現性±0.5%、200msec高速応答 ◉ PUA2:短波長2.0〜2.4μmもカバー、金属表面も測定可能 ◉ PUA5:ガラス表面測定用に最適 波長5μm ◉ PUA8:一般用途 幅広い用途に 波長8-14um 【その他仕様】 ◉ 視野角:15:1, 25:1, 30:1, 又は75:1 ◉ 放射率設定範囲:0.1〜1.0 ◉ 電源:24VDC ◉ 本体寸法:Φ27.6mm(径) x 61mm(長さ) ◉ 重量:約155g ◉ アナログ信号ケーブル1m(標準付属、延長最長30mまで) *USBケーブル1.8m(USBケーブルは延長不可)
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★★【ExTemp】本質安全防爆型赤外線放射温度センサー★★
ExTempは、石油化学プラント・医薬品工場・薬品工場などの危険物取扱設備や工場で使用することができる本質安全防爆構造の放射温度センサーです。 (TIIS型式検定合格番号:第21097号) TIIS(産業安全技術協会)検定取得 危険場所(Zone0, 1, & 2)で使用可能 ● 危険場所Zone 0、1 及び2(特別危険箇所、第一類危険箇所及び第二類危険箇所)で使用可 ● 測定温度範囲:-20℃ ~ +1000℃ ● 最大最小設定可能スパン:Max1000℃, Mini100℃(-20〜1000℃範囲で設定可能) ● 2線式、4-20mA出力 ● 本質安全防爆絶縁バリヤ付属 ● USB接続コンフィグレーション設定器「LCT設定器」付属:WindowsPCで付属の専用ソフトでスケーリング・スパン調整・放射率などの設定が可能 ● オプション:固定金具, エアパージキット, 延長ケーブル(10m, 25m) ● 過酷な環境に対応、316 ステンレス容器採用 ● 保護等級IP65
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取り扱い会社
【Endless possibility_thermal engineering...】 当社は半導体・電子機器基礎研究用真空薄膜装置、CVD基板加熱用超高温ヒーター、実験炉、温度計測機器などを販売しております。 いつの時代でも欠かす事のできない「熱」に対する尽きぬ需要、基礎技術開発分野での様々なご要求にお応えすべく、最新の機器を紹介し、日本の研究開発に貢献してまいりたいと考えます。










































