【SH 高温基板ヒーター】PVD, CVD用 Max1100℃
CVD, PVD（蒸着, スパッタ等）均熱性・再現性に優れた高真空 超高温 ウエハー・小片チップ加熱用 プレートヒーター
ヒータープレートにインコネルもしくはBNプレートを採用した、熱放射効率が良く、均熱性に優れた成膜装置・真空薄膜実験用高真空対応ホットプレートです。 【ラインナップ】 ◎ SH-IN（インコネルプレート）：φ1.0〜φ6.1inch 真空・O2・活性ガス用 ◎ SH-BN（BNプレート, Moカバー）：φ2.1〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用 【特徴】 ◎ 最高温度1100℃（SH-BN）, 850℃（SH-IN） ◎ 短時間昇温 ◎ 面内温度分布 ±2%以内 ◎ 制御精度・再現性±1℃ ◎ 低価格 ◎ 短納期（標準約2週間 *フランジ付き, 回転・上下機構, 取付ブラケット付きなどは除く）
基本情報
大学・官公庁研究機関で真空薄膜実験用に多数の採用実績がある信頼性高い超高温真空用 プレートヒーターです。独自の方法で高真空用に放電対策絶縁処理された端子部、超高温均一加熱が得られる様工夫された抵抗発熱式加熱ブロックを内蔵、ヒータープレート表面を短時間で高温まで加熱昇温することができます。 ◆ヒーター仕様◆ ◎ 使用発熱体 ・NiCr（SH-IN型）, W/BNコンポジット（SH-BN型） ◎ 最高使用温度 ・850℃（SH-IN型）, 1100℃SH-BN型 ◎ 対応基板サイズ ・1〜6inch（*1, 1.6inchはインコネルタイプのみ） ◎ 使用雰囲気 ・SH-IN：真空（1x10-7Torr）, 不活性ガス, 大気, O2, NH3, SiH4, CH4他 ・SH-BN：真空（1x10-7Torr）, 不活性ガス, H2, He, CH4, C（*O2不可） ◎ 基板固定用サンプルクリップ付属 ◆オプション仕様◆ ◎ 真空フランジ（JIS, ICF, ISO） ◎ 基板回転, 上下昇降機構 ◎ ヒーターコントローラ Model. BWS-PS/HC-Mini
価格情報
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納期
型番・ブランド名
SH-IN series, SH-BN series
用途／実績例
半導体・電子部品基板基礎技術開発分野でのCVD, PVD（PLD, ALD, 蒸着, スパッタリング）などの薄膜実験、物性研究、材料分析などの研究開発用途に最適、又、生産用途装置での活用も可能です。
詳細情報
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SH-IN-2.2inch-サンプル固定クリップ SH-IN-2.2inch-サンプル固定クリップ
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SH-IN-1.6inch custom heater Inconel 1.6inch heater right angled CF114 flange
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SH-BN-1.6inch heater with bracket SH-BN-1.6inch heater with bracket
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SH-IN-2.2inch-裏面支柱x4設置例 SH-IN-2.2inch-裏面支柱x4設置例
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SH-IN-2.2inch customer heater CF203 flange, Heater quarter faced
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SH-IN-1.6inch-600℃昇温中 SH-IN-1.6inch-600℃昇温中
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SH-IN-2.2inch-R【基板回転機構】 SH-IN-2.2inch-rotation stage CF114 base flange
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【ターゲット・カルーセル】基板ヒーターオプション 【PLD (Pulsed Laser Deposition) システム用自動ターゲット回転機構】 ・ターゲットサイズ：1inch or 2inch ・ターゲット数：最大3個まで ・接続フランジ：8inch (ICF203) ・自公転：ターゲット選択（公転）、ターゲット回転（自転） ・19inchラックマウント式専用コントローラー
関連動画
ラインアップ（12）
| 型番 | 概要 |
|---|---|
| SH-IN-1.0inch | 加熱部Φ1.0inch Max 850℃ インコネルプレート 使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He, O2 |
| SH-IN-1.6inch | 加熱部Φ1.6inch Max 850℃ インコネルプレート 使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He, O2 |
| SH-IN-2.2inch | 加熱部Φ2.2inch Max 850℃ インコネルプレート 使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He, O2 |
| SH-IN-3.1inch | 加熱部Φ3.1inch Max 850℃ インコネルプレート 使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He, O2 |
| SH-IN-4.1inch | 加熱部Φ4.1inch Max 850℃ インコネルプレート 使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He, O2 |
| SH-IN-6.1inch | 加熱部Φ6.1inch Max 850℃ インコネルプレート 使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He, O2 |
| SH-BN-1.0inch | 加熱部Φ1.0inch Max 850℃ BNプレート（Moカバー付き） 使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He |
| SH-BN-1.6inch | 加熱部Φ1.6inch Max 850℃ BNプレート（Moカバー付き） 使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He |
| SH-BN-2.2inch | 加熱部Φ2.2inch Max 850℃ BNプレート（Moカバー付き） 使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He |
| SH-BN-3.1inch | 加熱部Φ3.1inch Max 850℃ BNプレート（Moカバー付き） 使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He |
| SH-BN-4.1inch | 加熱部Φ4.1inch Max 850℃ BNプレート（Moカバー付き） 使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He |
| SH-BN-6.1inch | 加熱部Φ6.1inch Max 850℃ BNプレート（Moカバー付き） 使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He |
カタログ（37）
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この製品に関するニュース（59）
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◆◇◆【nanoCVD-8G】 グラフェン合成装置◆◇◆
◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温：1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度制御：±1℃ ◉ 高精度APC自動圧力制御システム：ガス3系統（Ar, H2, CH4） ◉ グラフェン作成用標準レシピ付属 ◉ コンパクトサイズ：405(W) x 415(D) x 280(H)mm ◆特徴◆ ・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理 ・最大30レシピ，30stepのプログラム作成可能 ・PCソフトウエア付属 USBケーブル接続，PC側でのオフラインレシピ作成→装置へアップ/ダウンロード, CSVデータ出力 ・最大試料サイズ：40 x 40mm：銅（ニッケル）箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板，他 ◆Model. nanoCVD-8G◆ ・グラフェン用標準プログラム付属 ・高真空プロセス, 高精度プロセス圧力制御 ・ロータリーポンプ標準付属 ・ガス供給3系統（Ar, H2, CH4） ・試料加熱ステージ（高純度グラファイト）Max1100℃ ・Kタイプ熱電対
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☆★☆★【nanoCVD-WGP】ウエハースケール・グラフェン合成装置 ☆★☆★
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。 熱CVD、低温～高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイズ致します。 【装置構成例】 ・基板：Cu, Ni, 他..（フィルム, フォイル） ・原料：CH4, C2H4, solids (PMMA), etc.. ・プロセスガス：H2, Ar, N2, etc.. ・基板サイズ：Φ4inch ・150W, 13.56MHz RF電源 ・500℃～Max1100℃基板加熱 ・高精度プロセスガス圧力APC制御 ・マスフローコントローラー最大4ch
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■□【PyroCouple】□■ 小型非接触式赤外線温度センサー
小型計量・堅牢ボディ・高精度±1%・240msec高速応答 産業用機械制御用、生産現場の温度監視など多目的に応用できます。 【特徴】 ◎ アンプ・センサ一体型 ◎ 4-20mA出力（標準）、0-50mV、熱電対K, J, T出力（オプション） ◎ 精度：±1% or ±1℃（いずれか大きい値） ◎ 再現性：±0.5% or ±0.5℃（いずれか大きい値） ◎ 応答速度：240msec ◎ 保護等級：IP65 【その他仕様】 ◉ 視野角：2:1, もしくは15:1 ◉ 温度範囲： ・LT（-20℃〜100℃） ・MT（0〜250℃） ・HT（0〜500℃） ◉ 測定波長領域：8〜14μm ◉ 放射率：0.95（固定） ◉ 電源：24VDC ◉ 本体寸法：Φ18mm（径） x 103mm（長さ） ◉ 重量：約95g ◉ ケーブル1m（標準付属）：延長最長3m（オプション）
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■□【PyroUSB】□■ USB接続式 高精度赤外線温度センサー
【概要】 標準付属の「CalexConfig」とUSBケーブル（1.8m付属）でWindowsPCに接続、PC上でセンサの測定パラメータ設定、測定結果の解析・CSV出力ができます。 1) 4-20mA出力 2) USB出力（USBバスパワーで動作） 3) 4-20mA/USB出力の同時使用 の3通りの使い方が可能です。 【特徴】 ◎ USBデータロギング/4-20mAアナログ出力の同時使用可能 ◎ 優れた基本性能：精度±1%, 再現性±0.5%、200msec高速応答 ◉ PUA2：短波長2.0〜2.4μmもカバー、金属表面も測定可能 ◉ PUA5：ガラス表面測定用に最適 波長5μm ◉ PUA8：一般用途 幅広い用途に 波長8-14um 【その他仕様】 ◉ 視野角：15:1, 25:1, 30:1, 又は75:1 ◉ 放射率設定範囲：0.1〜1.0 ◉ 電源：24VDC ◉ 本体寸法：Φ27.6mm（径） x 61mm（長さ） ◉ 重量：約155g ◉ アナログ信号ケーブル1m（標準付属、延長最長30mまで） *USBケーブル1.8m（USBケーブルは延長不可）
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★★【ExTemp】本質安全防爆型赤外線放射温度センサー★★
ExTempは、石油化学プラント・医薬品工場・薬品工場などの危険物取扱設備や工場で使用することができる本質安全防爆構造の放射温度センサーです。 （TIIS型式検定合格番号：第21097号） TIIS（産業安全技術協会）検定取得 危険場所（Zone0, 1, & 2）で使用可能 ● 危険場所Zone 0、1 及び2（特別危険箇所、第一類危険箇所及び第二類危険箇所）で使用可 ● 測定温度範囲：-20℃ ～ +1000℃ ● 最大最小設定可能スパン：Max1000℃, Mini100℃（-20〜1000℃範囲で設定可能） ● 2線式、4-20mA出力 ● 本質安全防爆絶縁バリヤ付属 ● USB接続コンフィグレーション設定器「LCT設定器」付属：WindowsPCで付属の専用ソフトでスケーリング・スパン調整・放射率などの設定が可能 ● オプション：固定金具, エアパージキット, 延長ケーブル（10m, 25m） ● 過酷な環境に対応、316 ステンレス容器採用 ● 保護等級IP65
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取り扱い会社
【Endless possibility_thermal engineering...】 当社は半導体・電子機器基礎研究用真空薄膜装置、CVD基板加熱用超高温ヒーター、実験炉、温度計測機器などを販売しております。 いつの時代でも欠かす事のできない「熱」に対する尽きぬ需要、基礎技術開発分野での様々なご要求にお応えすべく、最新の機器を紹介し、日本の研究開発に貢献してまいりたいと考えます。