【分析事例】Siウエハ表面の金属汚染分析(B0233)
定性・半定量分析にて一度に多くの金属元素情報を取得することも可能！
当社では、Siウエハ表面の金属汚染分析(B0233)を承っております。 ICP-MSを用いたSiウエハ表面の金属汚染分析の目的には、Siウエハ自体の 汚染評価以外にも、半導体装置内の汚染評価、Siウエハ暴露による作業 環境場の評価などもあり、Siウエハ表面の分析は様々な目的で行われます。 ICP-MS分析ではSiウエハ表面の金属汚染量を高感度に取得でき、さらに 目的に応じて評価領域を指定することも可能です。 【測定法・加工法】 ■[ICP-MS]誘導結合プラズマ質量分析法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
基本情報
【製品分野】 ■製造装置・部品 ■環境 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
価格帯
納期
用途／実績例
【分析目的】 ■微量濃度評価 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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