【分析事例】電子部品
【分析事例】電子部品
電子部品の分析事例をご紹介します
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【分析事例】SIMSによるSiO2中アルカリ金属深さ方向分布評価
試料冷却による高精度なアルカリ金属の分布評価
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【分析事例】バンプの広域断面観察
イオンポリッシュによる断面作製で微小特定箇所の広域観察が可能です
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【分析事例】SIMSによる極浅注入プロファイルの評価
極浅い領域においてもドーパント分布・接合の評価が可能
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【分析事例】シリコンウェハ上の汚染原因調査
手袋由来の汚染の評価
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【分析事例】最表面シラノール基の評価
TOF-SIMSでシラノール基の定量的な評価が可能です
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【分析事例】Si表面のH終端の解析
処理の違いによるSi表面のSiHや状態の定性・相対比較
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【分析事例】極薄SiON膜の組成・膜厚評価
光電子の平均自由行程を用いた膜厚の見積もり
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FIB低加速加工
FIB：集束イオンビーム加工
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高純度雰囲気下での前処理・測定
XPS：X線光電子分光法など
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【分析事例】SIMSによるSi酸化膜・ITO膜中の｢水」の評価
｢重水(D2O)処理」を用いた水素の深さ方向分析
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【分析事例】エポキシ樹脂の定性
TOF-SIMS分析による成分の推定が可能
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SEM装置での歪み評価
EBSD：電子後方散乱回折法
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【分析事例】TOF-SIMSによるフッ素系潤滑剤・高分子の同定
汚染成分を同定し、汚染発生工程を推定
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【分析事例】ウェハ・チップの特定箇所の前処理技術
目的箇所のみサンプリングし、ウェハを割らずにサンプル作製します
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【分析事例】エポキシ樹脂の硬化温度･ガラス転移温度調査
DSC（示差走査熱量）測定による熱物性評価
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【分析事例】ポリイミド成分の深さ方向分析
TOF-SIMSによる高分子・樹脂・フィルムの表面改質層の深さ方向の評価が可能
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【分析事例】プラズマ処理によるぬれ性変化の原因調査
TOF-SIMSによる高分子・樹脂･フィルムの表面改質層の最表面の評価が可能
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【分析事例】微小部XRD分析による結晶構造評価
微小領域のXRD測定が可能
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【分析事例】金属ワイヤー中の不純物評価
SEMと同等の視野で大気成分などの不純物の面内分布を可視化
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【分析事例】特殊形状試料のSIMS測定
固定方法の工夫により特殊な形状でも分析可能
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【分析事例】有機成分洗浄効果の評価
300mmウェハをそのまま測定できます
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【分析事例】はんだ合金中の添加物面内分布評価
ppmレベルの添加物の分布を高感度に評価可能
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透過EBSD法による30nm以下の結晶粒解析
EBSD：電子後方散乱回折法
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定量計算における妨害ピーク除去処理
XPS：Ｘ線光電子分光法
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【分析事例】磁気ヘッドMTJ部の構造評価
Csコレクタ付TEMによる高分解能TEM観察
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【分析事例】化学修飾XPSによる水酸基の定量
高分子フィルムの水酸基評価
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【分析事例】フッ素系膜の分布状態評価および成分分析
微小領域の面分析による分布の均一性評価と有機物の同定・推定
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【分析事例】ポリカーボネートの劣化層の評価
GCIB（Arクラスター）を用いることで劣化層の膜厚を評価することが可能
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【分析事例】熱分解GC/MSによるスマートフォン封止剤の分析
2段階の加熱によりUV硬化系素材の分析が可能
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【分析事例】マイクロサンプリングツールを用いた異物分析
下地・基板の影響なく異物の成分を同定します
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