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【分析事例】真空装置内の汚染分析

オイルバックやグリースなど真空装置内の汚染原因を評価可能!

空間内の気体分子密度が低いという特徴を利用した真空装置は、 電子部品の製造工程における薄膜形成や表面分析など様々な用途で使用されます。 真空装置のチャンバーは閉ざされた空間のため、 微量の分子の存在が装置内の汚染を引き起こしやすく、汚染を抑制するために、 ポンプ・装置・試料など汚染源を特定する調査が必要です。 本資料では、真空装置内の汚染についてTOF-SIMSで調査した事例を紹介します。

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基本情報

測定法:TOF-SIMS 製品分野:LSI・メモリ、電子部品、製造装置・部品 分析目的:組成評価・同定

価格帯

納期

用途/実績例

LSI・メモリ、電子部品、製造装置・部品の分析です。

【分析事例】真空装置内の汚染分析_C0741

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