「セミコンジャパン2024」出展及びセミナー開催のお知らせ

セミナーでは、HDRF-高密度ラジカルで、ポリマー、HDIレジストを低温除去できる新技術などをご紹介予定

最終更新日 2024年11月28日

強磁性膜・固体電解質成膜ソリューション

研究開発及び小規模生産用イオンビームスパッタリング装置！

最終更新日 2024年10月09日

バックサイドメタライゼーションソリューション『ECLIPSE』

DCパルススパッタリングが可能(導電性ターゲット使用した絶縁膜のリアクティブスパッタ)！

最終更新日 2024年10月09日

ナノマテリアル成膜ソリューション

ナノマテリアル(金属ナノ粒子、ナノワイヤー、ナノシート、ナノエレクトロニクス用材料)用薄膜の成膜に好適！

最終更新日 2024年10月09日

高密度ラジカルクリーニングソリューション

他社の同様の技術に比べ50～100倍ものラジカルを生成し、ダメージのないプロセスを提供！

最終更新日 2024年10月09日

航空宇宙工学・医療用スパッタリングソリューション

航空宇宙工学用光学膜、医療・バイオ用光学膜用ハイエンドスパッタリングプロセスが可能！

最終更新日 2024年10月09日

ダメージフリーイオンビーム成膜ソリューション『QuaZar』

ウェーハステージの傾斜/回転機能により、フィーチャーセッティングが可能！

最終更新日 2024年10月09日

強誘電体イオンビームエッチングソリューション『QuaZar』

不活性ガスArエッチングと反応性ガスによるエンハンスドRIBEが可能！

最終更新日 2024年10月09日

半導体デバイス故障解析ソリューション

ドライエッチングプロセスにおいて、正確な絶縁層及びメタル層の露出が可能！

最終更新日 2024年10月09日

マルチパーパスエッチング・成膜ソリューション

故障解析、MEMS、光MEMS、先端パッケージングなど、幅広い市場向けのエッチング及び成膜が可能！

最終更新日 2024年10月09日

F.A.S.Tソリューション

高い成膜レートを有する高品質な酸化物、窒化物、メタル成膜が可能！

最終更新日 2024年10月09日

バッチ式化合物半導体量産機プラズマCVD・プラズマエッチング装置

フランスで設計・製造された業界最小、ウエハトレイのみ交換で2～12インチウエハ対応、Corial 300・500シリーズ

最終更新日 2024年09月04日

イオンビームエッチング(IBE)・成膜装置(IBD)

R＆D用特殊仕様から量産向けまで対応可能！一般的なグリッドと比較して約3倍の長寿命化

最終更新日 2024年06月14日

プラズマCVD装置『SHUTTLELINE(R)シリーズ』

小型で多用途に応用可能！デバイス評価プロセスにも適応できる高機能装置です

最終更新日 2024年09月04日

オーダーメイド型スパッタリング成膜装置

難しい材料、様々な基板形状、用途にも！非常に幅広い基板サイズに対応可能

最終更新日 2024年04月02日

各種ウェハ高速加熱処理装置『HEATPULSE』

“サセプタ不用"の高スループットSiCウェハアニール！4-8インチウェハに対応

最終更新日 2024年03月13日

卓上タイプエッチング・成膜装置『Plasma POD シリーズ』

教育機関や小規模施設などに！タッチパネルで簡単操作が可能な卓上型システム

最終更新日 2023年07月13日

プラズマ技術～バイオ・医療への応用

a-SiC:H(堅牢膜)等のパッシベーション膜形成が可能！高密度プラズマによる表面除染

最終更新日 2023年05月19日

イオンビーム　エッチング・成膜装置『QuaZar』

総保有コストを減少させる事が可能！最高クラスの均一性とスループットを実現

最終更新日 2023年05月19日

半導体故障解析用プラズマ・エッチング装置

ICの絶縁層を除去！フットプリントが小さく、費用対効果の高いシステム

最終更新日 2023年05月12日

光化合物半導体　プラズマ加工装置

長年の経験と蓄積された加工ノウハウ！化合物半導体加工向けに1300台以上の納入実績

最終更新日 2023年05月12日

プラズマベースの原子層エッチング装置『Takachi ALE』

表面の単原子層のエッチング！エッチング対象物へのダメージを抑える事が出来ます！

最終更新日 2022年11月24日

プラズマ除去装置『HDRF』

フォトレジストや有機ポリマ残渣を低温で除去！当社のプラズマ除去装置をご紹介

最終更新日 2022年11月14日

クライオ・プラズマ・エッチング Takachi ICP Cryo

当社で取り扱う、極低温環境でのエッチング装置をご紹介いたします

最終更新日 2022年11月14日

不良解析エッチング装置『200FA/200R/200I』

剥離処理により、不要箇所を除去！当社で取り扱う不良解析エッチング装置をご紹介

最終更新日 2022年11月14日

プラズマCVD装置『210Dモデル』

φ200mmウェーハまで対応！成膜・エッチングの両用が可能なプラズマCVD装置です

最終更新日 2024年05月28日

プラズマダイシング装置『MDS-100/MDS-300』

複数サイズのウェハに対応！誘導結合プラズマを使用したBosch法によるダイシング

最終更新日 2022年07月21日

成膜装置『Corial 200 Series』

用途に応じてコンフィギュレーションする事ができるプラズマエッチング・成膜装置

最終更新日 2022年07月21日

イオンビームエッチング・成膜装置『QuaZar(TM)』

高いスループットを実現！大面積イオンソースと高度なモーションコントロール

最終更新日 2022年07月21日

プラズマ成膜装置『KOBUS F.A.S.T.(R)』

パルス機能を利用！ALDと同等薄膜を従来のCVDと同じ処理時間で生成する事が可能

最終更新日 2024年09月04日