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【分析事例】TOF-SIMSによるニッケルめっき剥離面の評価

めっきの剥がれ、密着不良をTOF-SIMS分析で原因調査

リン青銅上のニッケルめっきに発生した剥がれの不具合を調査するため、TOF-SIMS分析を行いました。 剥がれの部分を強制剥離させ、TOF-SIMSで定性分析を行ったところ、剥離面からはシロキサンやカリウム化合物(塩化カリウムや硫酸カリウム)などが検出されました。これらの成分が剥がれの原因であると考えられます。

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LSI・メモリの分析です

【分析事例】TOF-SIMSによるニッケルめっき剥離面の評価_C0404

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