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【分析事例】めっき試料の脱ガス評価

Ni/Auめっきの昇温脱離ガス分析(TDS)

めっき膜にガスが含有されている場合、はがれや膨れ、膜中の気泡など不良の原因となる場合があります。めっき膜に含有されているガスについて調査するには、高真空中で試料を昇温させて脱離したガスを測定できるTDSが有効です。 SUS部材上にNi/Auめっきを施した試料について、TDS分析を行った結果を示します。めっき膜からH2、 HCN、 H2S、 HClの脱離が確認できました。また、定量値の算出を行いました。

関連リンク - https://www.mst.or.jp/casestudy/c0464/

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LSI・メモリの分析です

【分析事例】めっき試料の脱ガス評価_C0464

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