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【分析事例】低温PL・SIMS分析Si基板の格子間型炭素の評価

Si基板に含まれる微量な炭素の確認が可能です

Siにイオンや電子線等を照射すると、Siに僅かに含まれる「格子置換型炭素」の一部が「格子間型炭素」に変化します。この格子間型炭素がデバイスの電気特性に影響を与えているとされています。 格子間型炭素に関連する挙動は低温PL分析で非常に感度良く観測することが可能であり、SIMS分析の下限以下の微量な炭素についての知見を得ることが可能です。 本資料では、イオン注入を行ったSi基板について低温PL分析とSIMS分析を行い確認した例を示します。

関連リンク - https://www.mst.or.jp/casestudy/c0481/

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太陽電池・パワーデバイス・LSI・メモリ・電子部品の分析です

【分析事例】低温PL・SIMS分析によるSi基板に含まれる格子間型炭素の評価_C0481

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