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[XRR]X線反射率法

XRR:X-ray Reflectivity

XRRは、X線を試料表面に極浅い角度で入射させ、その反射強度を測定します。この測定で得られた反射X線強度プロファイルをシミュレーション結果と比較し、シミュレーションパラメータを最適化することによって、試料の膜厚・密度を決定する手法です。 ・膜厚の評価が可能 (2~300nm 程度) ・密度の評価が可能 ・表面粗さの評価が可能(Rms = 5nm 以下) ・非破壊で分析が可能 ・約10×20mm の広い範囲の平均情報を得ることが可能

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基本情報

「臨界角(θc)」とは、屈折率が大きいところから小さいところに光が向かうとき、全反射が起きる最も小さな入射角のことです。 試料にX線を極浅い角度で入射させると、入射角 が臨界角より小さいときは入射したX線はすべて反射(全反射)されます。入射角を徐々に大きくしていき、入射角が臨界角より大きくなると、X線が薄膜中に侵入し、反射X線の強度が小さくなります。 さらに入射角を大きくしていくと、薄膜表面で反射したX線と各界面で反射したX線が互いに干渉し、振動プロファイルが観測されます。このようにして得られた反射率の振動プロファイルは、その物質の d:膜厚、ρ:密度、σ:ラフネスに応じた特有のプロファイルとなります。 膜構造を仮定してシミュレーションを行い、実測値とシミュレーション結果が合うように各パラメータの最適化を行うことで、膜厚・密度・ラフネスの評価を行います。

価格情報

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納期

用途/実績例

・薄膜の膜密度評価・膜厚評価 (Si酸化膜・Low-k膜・磁性材料・金属膜・有機EL・非晶質膜などの膜密度・膜厚評価) ・積層膜の膜密度評価 ・界面層の密度評価・膜厚評価

詳細情報

取り扱い会社

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