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顕微分光膜厚計で、複雑な形状のある任意ポイントの測定
さまざまな用途のDLCコーティング厚みの測定
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顕微分光膜厚計での nk 未知の極薄膜の測定
複数点同一解析を用いた nk 未知の極薄膜の測定
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顕微分光膜厚計の厚膜解析方法
屈折率の波長分散性を考慮した厚膜解析
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顕微分光膜厚計の膜厚解析
表面粗さを考慮した膜厚解析
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顕微分光膜厚計の構造解析
傾斜モデルを用いた薄膜の構造解析
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顕微分光膜厚計による透明基板上の高精度膜厚測定
反射対物レンズが実現する透明基板の高精度測定
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顕微分光膜厚計のメリット
反射分光法と他の測定手法の比較
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ハンディタイプの厚さ測定装置
使うヒトや場所にしばられない自由に使える高精度な厚さ測定装置
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分光配光測定システム
光源や照明器具の配光特性を測定する装置です
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全光束測定システム
LED単体から照明器具まで幅広い光源の全光束を測定します
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ゼータ電位・粒度分布測定 プリンター用インクの分散・安定性評価
高濃度状態でインクのゼータ電位・粒子径測定が可能
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粒径・粒度分布測定 有機顔料の分散性を高濃度状態で評価
プリンター用インクを高濃度状態で粒子径測定
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その場で測れる！ハンディタイプの高精度膜厚計
約1.1kgの持ち運べる膜厚計。最薄0.1μmから最大100μmまで、検量線不要で操作簡単 ＜デモ機を無料貸し出し中＞
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インラインフィルム評価システム『MCPD Series』
インラインフィルム評価システムは、光学式のため非接触・非破壊での膜厚、濃度、色などの検査が可能
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顕微分光膜厚計を用いたSiO2 SiNの膜厚測定
反射分光膜厚計『OPTM』を用いた絶縁膜の膜厚測定
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顕微分光膜厚計 反射率の変化と膜厚の関係
薄膜から厚膜まで高精度に測定が可能な顕微分光膜厚計『OPTM』
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ゼータ電位・粒度分布測定 DDSナノ材料リポソームのと等電点評価
ゼータ電位・粒子径・分子量測定システムを用いてDDSナノ材料リポソームのと等電点評価
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ゼータ電位・粒度分布測定 DDSナノ材料リポソームの評価
ゼータ電位・粒子径・分子量測定システムを用いてDDSナノ材料リポソームの粒子径とゼータ電位評価
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粒径・粒度分布測定装置 種類の異なるリポソームの粒子径評価
粒子径測定装置を用いて種類の異なるリポソームの粒子径評価
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ロードポート対応膜厚測定システム『GS-300』
半導体工場の膜厚ニーズに合わせたインテグレーションが可能！
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高速LED光学特性モニター『LE Series』
光ファイバーにより自由な測定系が可能！LED生産工程での光学特性を高速で評価します
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マルチチャンネル分光器『MCPD Series』
LED、有機ELなどの光学特性評価に好適！減光機能搭載によりハイパワー光源の評価も可能
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分光全放射束測定システム『HM/FM series』
IESNAのLM-79とLM-80に準拠した測定システム！分光全放射束測定の様々な要望に対応
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分光配光測定システム『GP series』
分光放射強度の角度分布を測定し、配光特性(光度・色度など)を評価！
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紫外放射照度測定システム『MCPD series』
紫外域でも高精度な測定を実現！高斜入射特性など用途にあった照度ヘッドを選択可
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固体表面ゼータ電位測定 研磨パッドの表面ゼータ電位測定
ゼータ電位・粒子径・分子量測定システムを用いて研磨パッドの表面ゼータ電位測定
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ゼータ電位測定 砥粒の異なるCMPスラリーの評価
CMPスラリーの等電点測定から分散性を評価
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ゼータ電位測定 CMPスラリーの塩濃度によるゼータ電位の制御
ゼータ電位測定でCMPスラリーの分散・安定性を評価
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固体表面ゼータ電位・粒度分布測定 ＣＭＰスラリーとウェーハの評価
粒子径とゼータ電位からCMPスラリーとウェーハの静電相互作用を評価
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ゼータ電位・粒度分布測定 ＣＭＰスラリーの制御評価
ゼータ電位・粒子径測定システムを用いてＣＭＰスラリーの非イオン性界面活性剤添加によるゼータ電位・粒子径の制御評価
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