リニアステージ
リニアステージ
当社では、モーター駆動リニアステージを幅広く取りそろえています。トラベルレンジは数ミリメートルからメートル単位にまで及び、精度クラスはナノメートルからマイクロメートルとなります。用途の条件に応じて各ドライブ、ガイド、センサー技術をカスタマイズしています。
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長時間運転のフォーカス再現性を維持する高精度Zステージ
ゼロプレイボールネジと高剛性構造により、検査・光学工程の位置ズレを抑制
最終更新日
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小型装置の位置決め品質を維持するリニアステージ
オートフォーカスや医療機器向けに、狭小スペースでも高再現性位置決めを実現
最終更新日
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小型リニアステージ|停止位置の安定性を維持するピエゾモーター駆動
セルフロック機構により、顕微鏡・光学装置内で停止時の発熱や位置ズレを低減
最終更新日
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リニアステージ(高速スキャン/20nm位置決め)精密検査向け
高応答スキャニング向け。±0.1µm繰返し精度で高速動作時の位置ズレを低減
最終更新日
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開口付リニアステージ(透過観察/高精度位置決め)顕微鏡向け
光学検査・顕微鏡観察向け。開口構造により透過光学系でも高精度位置決めを実現
最終更新日
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高耐荷重リニアステージ『L/V-412,L/V-417』
最大トラベルレンジは813mm!循環式ボールベアリング採用により450Nまで耐可
最終更新日
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位相シフター|干渉計測時の位相再現性を維持する光学Zステージ
ティルト補正付きZ動作により、干渉計や光学測定時の光軸ズレを低減
最終更新日
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【半導体検査向け】高精度位置決めに最適 A-121
非接触・無摩耗で長寿命、ナノメートル単位の滑らかな動作を実現
最終更新日
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【光学アライメント向け】クリーンルーム環境での使用可 A-121
非接触・無摩耗で長寿命、ナノメートル単位の滑らかな動作を実現
最終更新日
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【半導体向け】V-62xシリーズ 高精度回転ステージ
開口付、高剛性、1µm未満の偏心と平坦度を実現
最終更新日
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【光学向け】光学用位相シフター S-312
光学・干渉計向け 位相制御用オープンループZステージ
最終更新日
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【研究開発向け】光学用位相シフター S-312
干渉計・光学位相制御用オープンループZステージ
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【バイオテクノロジー向け】V-308フォーカスステージ
細胞観察・深部イメージングの精度を高める — ナノ精度Z軸フォーカスステージ
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【半導体製造向け】ボイスコイルフォーカスステージ V-308
最小10 nm分解能、最大7 mmストローク。半導体装置の高精度Z軸フォーカス制御を実現
最終更新日
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最大1kgの重力補正 ボイスコイルフォーカスステージ V-308
多光子顕微鏡・半導体検査向け。深部観察時も安定した焦点精度を維持
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【レーザー加工向け】V-308 高精度Z軸フォーカスステージ
最小10 nm分解能。レーザー加工ヘッドの高精度Z軸フォーカス制御
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【研究開発向け】自動化技術分野に適したリニアステージ V-408
アイロンコア3相リニアモータ搭載、高精度位置決めを実現するリニアステージ
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【顕微鏡向け】高精度位置計測を実現する小型リニアステージ
マイクロマニピュレーションに適した小型リニアステージ
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SEM・超解像顕微鏡の走査再現性を維持するピエゾステージ
長ストロークと3nm微動を両立し、高倍率観察時の位置ズレやドリフトを抑制
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【半導体製造向け】B-421 小型ピエゾ駆動リニアステージ
最大33mmストローク、半導体装置向け超小型ピエゾ駆動リニアステージ
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【光学調整向け】B-421 BIX 小型ピエゾ駆動リニアステージ
光学系の精密アライメントに対応する超小型ピエゾ駆動リニアステージ
最終更新日
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【半導体技術向け】可変ストローク対応 XYピエゾステージ
最大1800µmの長ストロークとナノ精度。独自の静電容量センサーで、物理的接触をせずに位置測定
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【半導体検査装置向け】最大荷重10kg・Zステージ L-310
ウェーハ検査・チップ検査のZ軸位置決めに。高剛性クロスローラーガイド採用の精密Zステージ
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【光学調整・光学アライメント向け】高精度Zステージ L-310
光学アライメント・フォーカス調整に。高剛性クロスローラーガイド採用の精密Zステージ
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【研究開発向け】高精度Zステージ L-310
顕微鏡・光学実験・精密測定のZ軸位置決めに。高剛性クロスローラーガイド採用の精密Zステージ
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【精密測定装置向け】耐荷重10 kg・高精度ZステージL-310
高剛性クロスローラーガイド採用。精密測定・研究用途のZ方向位置決めに最適
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【電子機器製造向け】モーター選択可 リニアステージ L-505
小型・高剛性設計と選べるモーター(DCモーターまたはステッピングモーター)で、組立工程の効率化と安定化に貢献
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【研究開発向け】高精度Z軸ボイスコイルモーターステージV-Z03
高速応答&高剛性で、サブミクロン単位の精密Z軸制御を実現
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Z軸ステージ(半導体検査/0.035µm補正)高精度フォーカスに
光学測定・半導体検査向け。高剛性Z軸制御で高倍率観察時の焦点ズレを低減
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高荷重リニアステージ(600N搬送/精密検査)大型装置向け
大型ワーク検査向け。重量物搬送時も2µm再現性で測定品質を安定化
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