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スキャンや高精度位置決めに エアベアリングステージ A-110
スキャニングまたは高分解能ポジショニングに最適なエアベアリングステージ
最終更新日
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【製造業向け】H-840 ヘキサポッドシステム
±50 mm / ±30°対応・高速6軸制御ヘキサポッド
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【研究向け】H-840 ヘキサポッドシステム
高速6軸制御を実現するコンパクトヘキサポッド
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ヘキサポッド（6軸位置補正／光学検査）高精度アライメント機構
MEMS・光学検査向け。ナノ位置補正により測定時の微細ズレを低減し検査品質を安定化
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ウェーハ検査の測定再現性を高めるリニアモータ
非接触リニアエンコーダにより、バックラッシュ由来の位置誤差を低減
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【半導体向け】精密位置決め・半導体技術・ウェハ検査に N-111
長距離ナノポジショニング用PiezoWalk(R)ドライブ。高分解能・コンパクト設計。
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長時間計測の位置再現性を維持するピエゾアクチュエータ
5nm分解能と無通電ロックにより、ウェーハ検査やナノ計測時の熱ドリフトを抑制
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【光学向け】大偏向角チップチルトピエゾステージ S-330
高速ステアリングミラー用途に最適な高ダイナミクスチップチルトステージ
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チップチルト｜広範囲走査でもビーム安定性を維持するピエゾ機構
20mrad超の大偏向角とサブミリ秒応答により、高速レーザースキャンを安定化
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【ナノポジショニング向け】高精度Zステージ 0.1nm分解能
0.1nm分解能と0.02%リニアリティ。サブナノZ軸制御で製造・計測精度を向上
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【半導体向け】PIHera高精度Z軸ステージ 0.1 nm分解能
サブナノメートルの分解能を提供。0.1nm分解能・高リニアリティ垂直ポジショニング
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ピエゾZステージ｜高速Z制御でもフォーカス再現性を維持
1kHz級共振と0.1nm分解能により、共焦点顕微鏡の高速Zスキャンを安定化
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【フォトニクス向け】Z・チップ・チルト開口部付ピエゾステージ
ナノレベル動作と大開口で、フォトニクス分野のアライメントを最適化
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【精密測定向け】Zチップチルト開口部付ピエゾステージ P-5x8
ナノレベルのZ・チップチルト制御を実現。66mm開口の高精度ピエゾステージ
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【顕微鏡走査向け】Zチップチルト開口部付ピエゾステージP-5x8
高倍率観察を支えるナノレベル走査。66mm開口のZ・チップチルトピエゾステージ
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【光学調整向け】Zチップチルト開口部付ピエゾステージ P-5x8
ナノレベルの調整を実現する、開口部付きピエゾステージ
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Tip/Tiltピエゾステージ｜高さと角度ズレを同時補正する機構
Z最大200µm＋2mrad補正により、干渉計・光学調整時の位相ズレを低減
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【精密測定向け】44mm角・小型ピエゾステージ P-611.Z
44mm角の筐体で、高さ計測をナノレベルで実現。
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【光学向け】分解能最大0.2nm ピエゾステージ P-611.Z
44mm角の筐体で、光学系の焦点調整をナノレベルで実現
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小型Z軸ピエゾステージ｜高速Z制御でもフォーカス再現性を維持
0.2nm分解能と120µm動作量により、顕微鏡の高速フォーカス制御を安定化
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【計測向け】XYZ軸精密位置決めステージ P-561~563
プローブ位置決めをサブナノ精度で実現するPIMars精密ナノステージ
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【顕微鏡向け】PIMars XYZ軸開口部付ピエゾステージ
顕微鏡の試料位置決めをナノ精度で実現するPIMars XYZナノステージ
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XYZ軸300µm動作 精密位置決めステージ P-561~563
66 mm開口×XYZ軸最大300 µmをナノオーダーで精密位置決め
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【光学調整向け】コンパクト2軸ナノポジショナ
44mm角・最大120µmストローク・0.2nm分解能の高精度ナノポジショナー
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【半導体製造装置向け】ピエゾナノポジショナー
44 mm角のコンパクト設計。120 µm動作量と0.2 nm分解能を実現するピエゾナノポジショニングステージ
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XY/XZピエゾステージ｜光学位置ズレを抑える2軸補正機構
0.2nm分解能と120µm動作量で、干渉計・光学調整の位置再現性を維持
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【顕微鏡向け】走査型顕微鏡に最適なXYピエゾスキャナ P-734
平坦度5 nm・分解0.3 nm、高速＆高精度動作を実現するXY軸ピエゾスキャナ
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XYピエゾスキャナ｜高速平面走査でも軌道平坦性を維持
平坦度5nm・0.3nm分解能で、表面形状解析や半導体位置決めの測定誤差を低減
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【光学調整向け】高精度パラレルキネマティクス P-733.2
再現性±1nm、XY軸100µmストローク。透過光光学系に最適な高精度ナノポジショナー
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【半導体製造向け】高精度パラレルキネマティクス P-733.2
再現性±1nm、XY軸100µmストローク。半導体製造装置向け高精度ナノポジショナー
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