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【分析事例】窒化ガリウムにおける欠陥準位の解析

点欠陥の形成エネルギー、電荷、光学遷移など!様々な物性情報が得られます

弊団では、第一原理計算によるワイドギャップ半導体 窒化ガリウム(GaN) における欠陥準位の解析を行っております。 ワイドギャップ半導体である窒化ガリウム(GaN)は主にパワーデバイスの 分野で用いられ、近年では急速充電器や5G通信基地局用途としての需要が 高まっています。 ここでは第一原理計算を用いてGaN中の窒素欠損(VN)が形成する 欠陥準位の解析を行った事例を紹介します。 【測定法・加工法】 ■[PL]フォトルミネッセンス法 ■計算科学・AI・データ解析 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

関連リンク - https://www.mst.or.jp/casestudy/c0680/

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【分析事例】第一原理計算によるワイドギャップ半導体_窒化ガリウムにおける欠陥準位の解析_C0680

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