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【分析事例】有機EL素子の電極/有機層界面の状態評価

不活性ガス雰囲気下で前処理からXPS測定まで行います

バッファー層/Alq3界面を物理的に剥離(ピーリング)し、剥離面(バッファー層側)のXPS分析を行いました。不活性ガス雰囲気下でピーリングすることで化学構造を破壊せずに界面を露出でき、さらに不活性ガス雰囲気を保ったままXPS装置に搬入することで剥離後の変質(酸化・吸湿など)を抑えました。バッファー層の主成分はLiFで、その一部が酸化している可能性が示唆されました。雰囲気を制御することで、成膜方法・処理方法・有機層の違い等によるAl、 Li等金属元素の酸化状態を評価することが可能です。

関連リンク - https://www.mst.or.jp/casestudy/c0094/

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ディスプレイの分析です

【分析事例】有機EL素子の電極/有機層界面の状態評価_C0094

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