スパッタ/EB複合蒸着 デュアルチャンバー装置
2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、蒸着、など）をロードロックでシームレスに連結
2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ - 蒸着、など）をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシステムにより、左右・後方へのプロセス室への連結も可能です。
基本情報
【装置構成事例】 *Chamber-1. MiniLab-E080A（蒸着装置） ・EB蒸着:7ccるつぼ x 6 ・抵抗加熱蒸着元 x 2 ・有機蒸着元 x 2 *Chamber-2. MiniLab-S070A（スパッタリング装置） ・Φ2"マグネトロンカソード x 4元同時スパッタ DC, RF両対応 *Chamber-3. Load Lockチャンバー ・プラズマエッチングステージ ロードロック室で「RF/DC基板バイアスステージ」による基板表面のプラズマクリーニング、又、同社独自の『ソフトエッチング』技術による<30W 低出力・ダメージレスプラズマエッチングステージも搭載可能。2D（PMMA等のレジスト除去など）、グラフェン剥離、又、テフロン基板などのダメージを受けやすい繊細なエッチングプロセスも可能。（*メインチャンバーステージへも搭載可能です）
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用途／実績例
電子デバイス・燃料電池・ディスプレイ等の製造工場、大学・研究機関、薬品・化学工場、食品工場、他多数
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この製品に関するニュース（28）
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☆★☆★【nanoCVD-8G】グラフェン合成装置 ☆★☆★
◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温：1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度制御：±1℃ ◉ 高精度APC自動圧力制御システム：ガス3系統（Ar, H2, CH4） ◉ グラフェン作成用標準レシピ付属 ◉ コンパクトサイズ：405(W) x 415(D) x 280(H)mm ◆特徴◆ ・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理 ・最大30レシピ，30stepのプログラム作成可能 ・PCソフトウエア付属 USBケーブル接続，PC側でのオフラインレシピ作成→装置へアップ/ダウンロード, CSVデータ出力 ・最大試料サイズ：40 x 40mm：銅（ニッケル）箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板，他 ◆Model. nanoCVD-8G◆ ・グラフェン用標準プログラム付属 ・高真空プロセス, 高精度プロセス圧力制御 ・ロータリーポンプ標準付属 ・ガス供給3系統（Ar, H2, CH4） ・試料加熱ステージ（高純度グラファイト）Max1100℃ ・Kタイプ熱電対
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★IntelliLink★nanoPVD薄膜実験装置に新機能「インテリリンク」リモートソフトウエアをリリース！
nanoPVD-S10A マグネトロンスパッタリング装置、nanoPVD-T15A 金属膜/ 有機膜蒸着装置、nanoPVD-ST15A 複合型薄膜実験装置に専用のリモート管理ソフト「IntelliLink（インテリリンク）」をリリースしました。 装置付属の7"タッチパネルで装置運転・成膜制御までを一元管理できる制御ソフト” IntelliDep” に加え、新たにオプションのIntelliLink によりWindows PC でリモート管理が可能となりました。 IntelliLinkにより、装置の主制御（真空引き、ベント操作、インターロック監視）を除くほぼ全ての操作がPCから可能になります。 ⑴ システムライヴモニタリング（装置運転状態モニター） ・チャンバー圧力、MFC流量設定 ・膜厚表示、設定、校正 ・ステージ回転、加熱、シャッター開閉操作 ⑵ エラー解析 ⑶ レシピ作成・保存・アップロード ⑷ データロギング、CSVフォーマット出力→他端末でのデータ共有 ◉ 装置背面Eathernetポートに、付属のUSBケーブルにて接続します。
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【テルモセラ・ジャパン】 研究開発用各種実験装置・温度計測機器
Endless possibility_thermal engineering いつの時代でも欠かす事のできない「熱」に対する尽きぬ需要、研究開発ニーズに少しでもお役に立てるべく、最新の熱エンジニアリング、温度計測技術を紹介してまいりたいと考えます。当社は放射温度センサ等の温度計測機器、半導体・電子機器基礎開発部門を支える、ヒーター、実験炉などを販売します。 ・CVD, PVD真空薄膜実験用超高温基板加熱ヒーター ・超高温小型実験炉 ・研究開発用薄膜実験装置 ・コンパクトシリーズ薄膜実験装置 ・赤外線放射温度センサー ・各種真空コンポーネント ・X線CT撮影装置
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【SH 真空 基板加用 高温プレートヒーター_Max 1100℃】CVD, PVD真空薄膜用
テルモセラ・ジャパン【基板加熱ヒーター】CVD, PVD等の薄膜実験用に最適な1inch〜4inch超高温基板加熱ヒーターのカタログの最新版に更新しました。 ◉ 最高使用温度850℃（SH-IN）、1100℃（SH-BN） 基板ホルダ、上下昇降機構・基板回転機構・RFバイアスなどのカスタマイズ品ご要求にも対応致します。 又、ヒーターコントローラは従来の据置型に加え19inchラックマウントも取扱います。
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◆◆◆ 【Nanofurnace】Model. BWS-NANO 熱CVD装置 ◆◆◆
多目的に使える、高精度プロセスコントロール【ホットウオール式熱CVD装置】 ◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに活用いただけます。
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取り扱い会社
【Endless possibility_thermal engineering...】 当社は半導体・電子機器基礎研究用真空薄膜装置、CVD基板加熱用超高温ヒーター、実験炉、温度計測機器などを販売しております。 いつの時代でも欠かす事のできない「熱」に対する尽きぬ需要、基礎技術開発分野での様々なご要求にお応えすべく、最新の機器を紹介し、日本の研究開発に貢献してまいりたいと考えます。