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【分析事例】高分子表面のイオン照射による損傷層の評価

GCIB(Arクラスター)を用いることで損傷層の成分・厚さ評価が可能

高分子材料の表面にイオン照射を行うことにより、表面特性の変化が生じます。この変化を利用し、機能性材料の開発など広い分野で研究が行われています。イオン照射後、表面状態にどのような変化が生じたのか評価することは、効率的な研究・開発に重要です。 TOF-SIMS分析では、スパッタイオンビームにGCIB(Gas Cluster Ion Beam)を用いることで、高分子材料表面のイオン照射による損傷層(ダメージ層)の成分・厚さを評価することが可能です。

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電子部品の分析です

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