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【分析事例】SIMSによるSiCパワーMOSFETドーパント評価

イメージングSIMSにより、局在する元素の評価が可能

市販のSiCパワーMOS FETを解体し、素子パターンを含む20um角の領域で深さ0.5umまでイメージングSIMS測定を行い、ドーパント元素であるAl、N、Pの濃度分布を評価しました。 イメージングSIMS測定後のデータ処理から、試料面内に局在するAl、N、Pの深さ方向濃度分布を抽出した事例をご紹介します。

関連リンク - https://www.mst.or.jp/casestudy/c0249/

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【分析事例】SIMSによるSiCパワーMOSFET中ドーパント評価_C0249

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