【分析事例】LSI・メモリ
【分析事例】LSI・メモリ
LSI・メモリの分析事例をご紹介します
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【分析事例】GaNの部分状態密度測定
価電子帯・ギャップ内準位について元素別の情報が得られます
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【分析事例】STEM、EBSD像シミュレーション多結晶体構造解析
像シミュレーションを併用した結晶形の評価
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【分析事例】TDSによるα-アルミナ（α-Al2O3）の分析
セラミックスの昇温脱離ガス分析
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【分析事例】シリコン結晶中の不純物拡散シミュレーション
シミュレーションによって拡散の経路・障壁を求めることが可能です
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【分析事例】分子動力学計算による機械的特性評価シミュレーション
環境変化（圧力・温度）に対するナノ材料の変形挙動の解析が可能です
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【分析事例】SiON極薄膜中の成分深さ方向分析
TOF-SIMSで無機物の分子情報を深さ方向に捉えることが可能
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【分析事例】ウェハ上異物・付着物の 無機・有機同時定性分析
微小特定箇所の無機成分・有機成分を同時に測定
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【分析事例】デバイスの金属膜中および界面における金属不純物の評価
めっきなどの膜中・界面の不純物をTOF-SIMSで評価できます。
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【分析事例】ウェハ上パーティクルの組成分析
SEM-EDXによる形状観察及び簡易定量分析
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【分析事例】ARXPSによる極薄膜の組成分布評価
基板上の極薄膜についてデプスプロファイルを評価可能！
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【分析事例】MRAMのFe/MgO/Fe接合系の理論計算
NEGF法を用いた第一原理計算によってFe/MgO/Fe接合系に対してTMR比やスピン・電荷の様子を評価！
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【分析事例】Xe-PFIBを用いた広域断面のSEM観察
数十nmオーダーの狙い精度で数百μm角の断面観察が可能！
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【分析事例】半導体中キャリアの直流電圧依存性評価
半導体中のキャリアの挙動を可視化できます！
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【分析事例】ALD成膜におけるプリカーサ吸着シミュレーション
基板上へプリカーサ吸着時の活性化エネルギー、反応熱の情報が得られます！
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【分析事例】a-SiO2膜の HFエッチングシミュレーション
エッチングプロセスにおける原子レベルでの表面反応の理解に有効
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【分析事例】分子動力学計算によるGa含有プリカーサーの蒸気圧計算
ALD、CVDのプリカーサーに用いられる金属錯体の蒸気圧予測に有効！
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【分析事例】真空装置内の汚染分析
オイルバックやグリースなど真空装置内の汚染原因を評価可能！
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